[发明专利]屏幕杂质的处理方法、装置、系统和电子设备在审
申请号: | 202210167483.9 | 申请日: | 2022-02-23 |
公开(公告)号: | CN114545668A | 公开(公告)日: | 2022-05-27 |
发明(设计)人: | 陈成;袁欢 | 申请(专利权)人: | 深圳市尊绅投资有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 徐丽 |
地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 屏幕 杂质 处理 方法 装置 系统 电子设备 | ||
本发明提供了一种屏幕杂质的处理方法、装置、系统和电子设备,涉及液晶屏幕加工的技术领域,该方法包括:对预先获取的初始屏幕进行切割,得到多个目标屏幕;通过镭射激光,对目标屏幕的固有缺陷进行修补,得到修补屏幕;对修补屏幕进行烘烤,以消除修补屏幕上的屏幕杂质。本发明通过对液晶屏幕进行高温烘烤,从而使异物暗(即屏幕杂质)减少甚至消失,提高了液晶屏幕的显示质量。
技术领域
本发明涉及液晶屏幕加工技术领域,尤其是涉及一种屏幕杂质的处理方法、装置、系统和电子设备。
背景技术
在LCD(Liquid Crystal Display,液晶显示器)工艺中,一般需要对液晶屏幕(又称panel,液晶屏)进行镭射修补,镭射修补过程中,镭射切割产生的热量后会使panel中的溴离子挥发出来,溴离子与液晶分子产生反应,形成异物暗,导致Panel降等,异物暗(即屏幕杂质)将影响液晶屏幕的显示质量。
发明内容
基于此,本发明的目的在于提供一种屏幕杂质的处理方法、装置、系统和电子设备,以通过高温烘烤消除屏幕中的异物暗,以提升液晶屏幕的显示质量。
第一方面,本发明提供一种屏幕杂质的处理方法,该方法包括:对预先获取的初始屏幕进行切割,得到多个目标屏幕;通过镭射激光,对目标屏幕的固有缺陷进行修补,得到修补屏幕;对修补屏幕进行烘烤,以消除修补屏幕上的屏幕杂质。
在可选的实施方式中,对修补屏幕进行烘烤,以消除修补屏幕上的屏幕杂质的步骤,包括:烘烤的温度为90℃以上,烘烤的时间为3小时以上。
在可选的实施方式中,烘烤的温度为90℃且烘烤的时间为4小时;或者,烘烤的温度为120℃且烘烤的时间为3小时;或者,烘烤的温度为150℃且烘烤的时间为3小时。
在可选的实施方式中,通过镭射激光,对目标屏幕的固有缺陷进行修补,得到修补屏幕的步骤之前,方法还包括:通过扎针驱动检测方法检验目标屏幕是否存在固有缺陷;若目标屏幕存在固有缺陷,则执行通过镭射激光,对目标屏幕的固有缺陷进行修补,得到修补屏幕的步骤。
在可选的实施方式中,对修补屏幕进行烘烤,以消除修补屏幕上的屏幕杂质的步骤之后,方法还包括:将烘烤后的修补屏幕作为最终屏幕;通过扎针驱动检测方法检测最终屏幕中的屏幕杂质,得到最终屏幕的屏幕质量;根据屏幕质量,对最终屏幕进行分类。
第二方面,本发明提供一种屏幕杂质的处理装置,该装置包括:切割模块,用于对预先获取的初始屏幕进行切割,得到多个目标屏幕;镭射修补模块,用于通过镭射激光,对目标屏幕的固有缺陷进行修补,得到修补屏幕;烘烤模块,用于对修补屏幕进行烘烤,以消除修补屏幕上的屏幕杂质。
第三方面,本发明提供一种屏幕杂质的处理系统,处理系统用于执行前述实施方式任一项的屏幕杂质的处理方法;屏幕杂质的处理系统包括:切割结构、镭射修补结构和烘烤结构;切割结构,用于对预先获取的初始屏幕进行切割,得到多个目标屏幕;镭射修补结构,用于通过镭射激光,对目标屏幕的固有缺陷进行修补,得到修补屏幕;烘烤结构,用于对修补屏幕进行烘烤,以消除修补屏幕上的屏幕杂质。
在可选的实施方式中,处理系统还包括:翻转结构、定位结构、承接结构、点灯结构和出货结构;翻转结构,用于对屏幕进行翻转;定位结构,用于对屏幕进行定位校准;目标屏幕放置于承接结构上;点灯结构,用于通过扎针驱动检测方法检验屏幕是否存在缺陷;出货结构,用于对屏幕分别进行打包并出货。
在可选的实施方式中,点灯结构包括第一点灯结构和第二点灯结构;第一点灯结构,用于通过扎针驱动检测方法检验目标屏幕是否存在固有缺陷;第二点灯结构,用于通过扎针驱动检测方法检验最终屏幕的屏幕质量。
第四方面,本发明提供一种电子设备,包括处理器和存储器,存储器存储有能够被处理器执行的机器可执行指令,处理器执行机器可执行指令以实现前述实施方式任一项的处理方法。
本发明实施例的有益效果如下:
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