[发明专利]覆铜积层板、聚酰亚胺树脂及其制造方法

权利要求书

1.一种聚酰亚胺树脂，包括：

二酐单体以及二胺单体，其中所述二胺单体包含末端胺基改质的聚苯醚寡聚物所衍伸的残基。

2.根据权利要求1所述的聚酰亚胺树脂，其中以所述二胺单体的总分量为100莫耳分，所述末端胺基改质的聚苯醚寡聚物所衍伸的残基为20莫耳分以上。

3.根据权利要求1所述的聚酰亚胺树脂，其中所述末端胺基改质的聚苯醚寡聚物的结构如化学式1所示：

[化学式1]

在化学式1中，m为4至10的整数。

4.根据权利要求1所述的聚酰亚胺树脂，其中所述聚酰亚胺树脂的结构如化学式2所示：

[化学式2]

在化学式2中，R₁与R₂各自为二酐单体衍伸的残基，R₃为所述末端胺基改质的聚苯醚寡聚物以外的二胺单体衍伸的残基，m为4至10的整数，x为0.2～1，y为0.8～0。

5.根据权利要求4所述的聚酰亚胺树脂，其中在化学式2中：

R₁与R₂各自选自下列选项中的至少一者：3,3',4,4'-联苯四羧酸二酐所衍生的残基、1,4-伸苯基双(偏苯三甲酸单酯)二酐所衍生的残基、均苯四甲酸二酐所衍生的残基、4,4'-氧双邻苯二甲酸酐所衍生的残基、4,4'-(六氟异丙烯)二酞酸酐所衍生的残基、2,3,6,7-萘四羧酸二酐所衍生的残基、3,3'4,4'-二苯甲酮四羧酸二酐所衍生的残基、1,2,3,4-环丁烷四羧酸二酐所衍生的残基、1,2,4,5-环己烷四羧酸二酐所衍生的残基以及4,4'-双酚A二酐所衍生的残基，

R₃选自由化学式3至化学式9所表示的二胺单体中的至少一种所衍生的残基：

[化学式3]

[化学式4]

[化学式5]

[化学式6]

[化学式7]

[化学式8]

[化学式9]

其中在化学式3至化学式9中，R₄独立地表示氢或碳数1至6的一价烃基或烷氧基，连结基A独立地表示选自-O-、-S-、-CO-、-SO-、-SO2-、-COO-、-CH2-、-C(CH3)2-、-NH-或-CONH-中的二价基，n₁独立地表示0至4的整数。

6.一种覆铜积层板，包括：

铜层；以及

如权利要求1至权利要求5中的任一项所述的聚酰亚胺树脂，其中所述聚酰亚胺树脂形成于所述铜层上。

7.一种聚酰亚胺树脂的制造方法，包括：

将二胺单体溶于溶剂中，其中所述二胺单体包含末端胺基改质的聚苯醚寡聚物；以及

将二酐单体加入所述溶剂中，并进行聚合反应。

8.根据权利要求7所述的聚酰亚胺树脂的制造方法，其中所述末端胺基改质的聚苯醚寡聚物的结构如化学式1所示：

[化学式1]

在化学式1中，m为4至10的整数。

9.根据权利要求7所述的聚酰亚胺树脂的制造方法，其中以所述二胺单体的总分量为100莫耳分，所述末端胺基改质的聚苯醚寡聚物为20莫耳分以上。

10.根据权利要求7所述的聚酰亚胺树脂的制造方法，其中所述聚酰亚胺树脂的结构如化学式2所示：

[化学式2]

在化学式2中，R₁与R₂各自为所述二酐单体衍伸的残基，R₃为所述末端胺基改质的聚苯醚寡聚物以外的二胺单体衍伸的残基，m为4至10的整数，x为0.2～1，y为0.8～0。