[发明专利]拼接屏及其制备方法

权利要求书

1.一种拼接屏，其特征在于，包括至少两块子显示屏；

每一子显示屏都具有显示区和拼缝区；

所述拼缝区的一边与所述显示区连接，所述拼缝区远离所述显示区的一边与相邻的所述子显示屏的拼缝区拼接；

所述子显示屏包括叠层设置的显示模组和彩膜基板；

在所述显示模组或者所述彩膜基板对应的所述拼缝区还设置有自发光器件，所述自发光器件具有多个像素；

所述显示区的像素和所述自发光器件的像素大小和分布相同，且显示信号同步。

2.如权利要求1所述的拼接屏，其特征在于，所述彩膜基板包括叠层设置的玻璃衬底和彩膜层，所述彩膜层包括黑色矩阵和彩色色阻；所述自发光器件位于所述玻璃衬底和彩膜层之间。

3.如权利要求2所述的拼接屏，其特征在于，所述自发光器件包括：

走线层，设于所述玻璃衬底的一表面上；

发光芯片，设于所述走线层远离所述玻璃衬底的一表面上；

封装层，设于所述玻璃衬底上，并覆盖所述发光芯片。

4.如权利要求2所述的拼接屏，其特征在于，所述彩膜基板还包括：

反射层，设于所述自发光器件靠近所述彩膜层的一表面上；

电极层，设于所述彩膜层朝向所述显示模组的一表面上。

5.如权利要求1所述的拼接屏，其特征在于，所述显示模组包括：

阵列基板，覆盖所述显示区和拼缝区；

液晶层，设于所述阵列基板靠近所述彩膜基板的一表面上，并对应于所述显示区。

6.如权利要求1所述的拼接屏，其特征在于，所述子显示屏还具有边框区，所述边框区与所述拼缝区首尾相连形成环状结构的次显示区，所述次显示区围绕所述显示区自发光器件。

7.一种拼接屏的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

制备显示模组和彩膜基板，并在所述显示模组和所述彩膜基板上设定显示区和拼缝区；

在所述显示模组或所述彩膜基板的拼缝区中制备自发光器件；

组装所述显示模组和所述彩膜基板形成子显示屏；

相邻两个所述子显示屏的拼接区相拼接，形成所述拼接屏。

8.如权利要求7所述的拼接屏的制备方法，其特征在于，在制备所述彩膜基板步骤中包括以下步骤：

在一玻璃衬底上形成黑色矩阵和彩色色阻，形成彩膜层。

9.如权利要求8所述的拼接屏的制备方法，其特征在于，在所述彩膜基板的拼缝区中制备自发光器件步骤中包括以下步骤：

在所述拼缝区中的玻璃衬底上形成走线层；

在所述走线层上形成发光芯片；

在所述玻璃衬底和所述发光芯片上形成封装层。

10.如权利要求8所述的拼接屏的制备方法，其特征在于，制备所述彩膜基板步骤中还包括以下步骤：

在所述自发光器件朝向所述彩膜层的一表面上形成反射层；

在所述彩膜层朝向所述显示模组的一表面上形成电极层。