[发明专利]从EUV掩模去除污染物在审
| 申请号： | 202210202118.7 | 申请日： | 2022-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN115016227A | 公开（公告）日： | 2022-09-06 |
| 发明（设计）人： | 廖本男 | 申请（专利权）人： | 杜邦电子公司 |
| 主分类号： | G03F1/82 | 分类号： | G03F1/82 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋;乐洪咏 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | euv 去除 污染物 | ||
1.一种从极紫外掩模去除污染物的方法，所述方法包括：
a)检查所述极紫外掩模的污染物；
b)提供由水、磺酸或其盐、氯离子源、任选的氧化剂和任选的表面活性剂组成的水性清洁组合物；以及
c)使所述极紫外掩模与所述包含磺酸和氯离子源的水性清洁组合物接触以从所述极紫外掩模至少去除锡。
2.如权利要求1所述的方法，其中，
所述磺酸具有下式：
R-S(＝O)2-OH (I),
其中R是烷基或芳基。
3.如权利要求2所述的方法，其中，R为CnH2n+1，并且变量n为1和更大的整数。
4.如权利要求3所述的方法，其中，R为CnH2n+1，并且所述变量n为1-4的整数。
5.如权利要求1所述的方法，其中，所述磺酸的量为至少10wt％。
6.如权利要求5所述的方法，其中，所述磺酸的量为15-65wt％。
7.如权利要求1所述的方法，其中，所述氯离子的量为至少0.05wt％。
8.如权利要求7所述的方法，其中，所述氯离子的量为至少0.1-5wt％。
9.如权利要求1所述的方法，其中，所述磺酸的盐具有下式：
R-S(＝O)2-O-Y+ (II),
其中R是烷基或芳基，并且Y+是抗衡阳离子。
10.如权利要求1所述的方法，其中，所述水性清洁组合物处于至少30℃的温度下。
11.如权利要求10所述的方法，其中，所述水性清洁组合物处于50℃-85℃下。
12.一种从极紫外掩模去除污染物的方法，所述方法包括：
a)检查所述极紫外掩模的污染物；
b)提供由水、氯离子源、具有下式的磺酸或其盐、任选的氧化剂和任选的表面活性剂组成的水性清洁组合物：
R-S(＝O)2-OH (I),
其中R是烷基或芳基；以及
c)使所述极紫外掩模与所述水性清洁组合物接触以从所述极紫外掩模至少去除锡。
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