[发明专利]显示面板及其制备方法

说明书

本申请公开了一种显示面板及其制备方法，显示面板包括衬底、晶体管层和像素电极，晶体管层设置于衬底上，晶体管层远离衬底的一面上设置有诱导结晶部，像素电极设置于晶体管层上，且位于诱导结晶部上。在本申请中，通过在晶体管层上设置诱导结晶部，以诱导位于诱导结晶部上的像素电极结晶，从而使得制备像素电极的过程中无需采用曝光工艺，从而减少了显示面板的曝光制程数量，简化了显示面板的制备工艺。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其制备方法。

背景技术

在生产制造业，精简生产工艺、降低生产成本是永不过时的追求；在显示面板行业也是如此。目前显示行业应用最广泛的薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)显示面板，由于曝光制程的精密性和曝光设备的昂贵价格，导致曝光制程道数越多，代表其工艺越复杂，从而制程成本增高。而现有的显示面板中，制备像素电极和钝化层通常需要进行两道曝光工艺，从而导致显示面板的制备成本增加。

发明内容

本申请实施例提供一种显示面板及其制备方法，降低显示面板的制备成本。

本申请提供一种显示面板，包括：

衬底；

晶体管层，所述晶体管层设置于所述衬底上，所述晶体管层远离所述衬底的一面上设置有诱导结晶部；以及

像素电极，所述像素电极设置于所述晶体管层上，且位于所述诱导结晶部上，所述像素电极为结晶的像素电极。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述诱导结晶部包括第一诱导结晶部和第二诱导结晶部，所述晶体管层包括晶体管和设置于所述晶体管上的钝化层；

所述晶体管包括第一电极，所述第一电极远离所述衬底的一面设置有所述第一诱导结晶部；

所述钝化层包括通孔，所述通孔贯穿所述钝化层以暴露所述第一诱导结晶部，所述钝化层远离所述衬底的一面设置有所述第二诱导结晶部，且所述第二诱导结晶部围绕所述通孔设置。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述第一诱导结晶部为第一粗糙表面，所述第二诱导结晶部为第二粗糙表面。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述第一粗糙表面和所述第二粗糙表面的粗糙度均大于等于10纳米。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述第一粗糙表面的粗糙度大于所述第二粗糙表面的粗糙度。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述钝化层远离所述衬底的一面具有多个间隔设置的所述第二诱导结晶部。

相应的，本申请还提供一种显示面板的制备方法，包括：

提供一衬底；

在所述衬底上设置晶体管层材料，对所述晶体管层材料进行图案化处理形成晶体管层，所述晶体管层远离所述衬底的一面设置有诱导结晶部；以及

在所述晶体管层上形成像素电极，且所述像素电极位于所述诱导结晶部上，所述像素电极为结晶的像素电极。

可选的，在本申请的一些实施例中，晶体管层包括晶体管和设置于所述晶体管的钝化层，所述晶体管包括第一电极，在所述衬底上设置晶体管层材料，对所述晶体管层材料进行图案化处理形成晶体管层的步骤中，包括：

在所述衬底上形成晶体管的导电层；

在所述晶体管上设置钝化层材料，并进行图形化处理，所述钝化层材料形成钝化层，所述导电层形成第一电极；

其中，所述第一电极远离所述衬底的一面形成第一诱导结晶部，所述钝化层包括通孔，所述通孔贯穿所述钝化层以暴露所述第一诱导结晶部，所述钝化层远离所述衬底的表面形成第二诱导结晶部。