[发明专利]一种自动化上料电池片到大载板的缓存系统及方法在审

专利信息
申请号: 202210207561.3 申请日: 2022-03-03
公开(公告)号: CN114664713A 公开(公告)日: 2022-06-24
发明(设计)人: 刘翠翠;王祥远 申请(专利权)人: 江西汉可泛半导体技术有限公司
主分类号: H01L21/677 分类号: H01L21/677;H01L21/687;H01L31/20;C23C16/24;C23C16/458;C23C16/54
代理公司: 南昌贤达专利代理事务所(普通合伙) 36136 代理人: 张雪娟
地址: 332020 江西省*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 一种 自动化 电池 片到大载板 缓存 系统 方法
【说明书】:

发明公开了一种自动化上料电池片到大载板的缓存系统及方法,涉及硅片生产设备技术领域,包括缓存换面中转台及配置在缓存换面中转台一侧的抓取装置、大载板和小载板;缓存换面中转台、大载板和小载板上均具有用于装载硅片的放置槽;抓取装置能够抓取大载板上的硅片并转移至缓存换面中转台上,还能够抓取小载板上的硅片并转移至大载板上。本发明的有益效果是通过增加缓存换面中转台能够缓存硅片而能够让抓取装置进行下一个动作,并通过抓取装置从上方将硅片放置在缓存换面中转台下,通过另一抓取装置从缓存换面中转台的下方抓取硅片,即可完成硅片翻面,本发明中的系统模块化设计制造,占地空间小,结构简单,使用方便。

技术领域

本发明涉及硅片生产设备技术领域,具体涉及一种自动化上料电池片到大载板的缓存系统及方法。

背景技术

单晶硅异质结太阳硅片转换效率高,被光伏行业公认为下一代大规模产业化关键技术之一。生产异质结硅片的镀非晶硅薄膜CVD设备核心设备之一为立式HWCVD(热丝化学气相沉积)设备。而硅片进入立式HWCVD(热丝化学气相沉积)设备里面镀膜是通过大载板输送进去,硅片在放置到大载板上以及从大载板上取下来的过程中容易出现碎片和磨损;另外,在硅片镀完一面的膜时,要换到另外一台设备上镀另外一面时,需要将硅片翻面,这个过程较难完成,且导致上料节拍慢。

发明内容

本发明的目的在于至少解决现有技术中存在的技术问题之一,提供一种自动化上料电池片到大载板的缓存系统及方法。

本发明的技术解决方案如下:

本发明第一方面提供一种自动化上料电池片到大载板的缓存系统,包括缓存换面中转台,所述缓存换面中转台的一侧配置有抓取装置、大载板和小载板;

所述缓存换面中转台、大载板和小载板上均具有用于装载硅片的放置槽;

所述抓取装置能够抓取大载板放置槽内的硅片并转移至缓存换面中转台上的放置槽内,所述抓取装置还能够抓取小载板放置槽内的硅片并转移至大载板上的放置槽内。

本发明的一种具体实施方式中,所述抓取装置设置在缓存换面中转台和大载板之间,所述小载板设置在缓存换面中转台和抓取装置之间;

所述大载板上的放置槽朝向缓存换面中转台设置,所述缓存换面中转台和小载板上的放置槽均沿竖直方向朝上设置。

本发明的一种具体实施方式中,所述缓存换面中转台包括:

放置板,所述放置板上设置有若干个通槽;

若干个第一夹持机构,所述第一夹持机构包括两个相对设置的固定板以及两个驱动装置,所述固定板上设置有若干组夹杆,每组所述夹杆的数量为两个且两个所述夹杆分别位于固定板相邻的两个侧壁上,所述固定板上的一组夹杆与相对设置的另一个固定板上的一组夹杆呈对角设置,所述夹杆上均具有用于夹持硅片的第一卡槽,所述驱动装置设置在所述放置板上用于驱动所述固定板沿水平方向移动。

本发明的一种具体实施方式中,所述缓存换面中转台还包括:

若干个用于对所述固定板移动起到导向和支撑作用的第一辅助支撑装置,所述第一辅助支撑装置设置在所述放置板上,所述第一辅助支撑装置包括第一导轨和第一移动块,所述第一移动块可滑动地设置在所述第一导轨上,所述第一导轨设置在所述放置板上且与所述驱动装置平行。

本发明的一种具体实施方式中,所述抓取装置包括:

若干个第二夹持机构,所述第二夹持机构包括第一驱动装置和两个相对设置的支撑件,所述支撑件靠近所述缓存换面中转台一侧的侧壁上设置有若干组手指夹杆,每组所述手指夹杆的数量为两个且两个所述手指夹杆分别位于支撑件相邻的两个侧壁上,所述支撑件上的一组手指夹杆与相对设置的另一个支撑件上的一组手指夹杆呈对角设置,所述手指夹杆上设置有用于夹持硅片的第二卡槽,所述第一驱动装置设置在所述支架上用于驱动两个所述支撑件远离或靠近。

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