[发明专利]一种烧结钕铁硼氧含量的调控制备方法在审

专利信息
申请号: 202210210146.3 申请日: 2022-03-04
公开(公告)号: CN114724832A 公开(公告)日: 2022-07-08
发明(设计)人: 付松;张雪峰;刘孝莲;纪一见;赵利忠;严密 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: H01F41/02 分类号: H01F41/02;H01F1/057
代理公司: 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人: 李博
地址: 310018*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 烧结 钕铁硼氧 含量 调控 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种烧结钕铁硼氧含量的调控制备方法,其特征是,包括如下步骤:

a.将钕铁硼磁体原料进行真空熔炼和甩带得到钕铁硼甩带片;

b.将钕铁硼甩带片氢破处理得到氢破后粗粉;

c.将氢破后粗粉在气流磨中由惰性气体研磨得到钕铁硼细粉;

d.向钕铁硼细粉中加入MgO粉末和添加剂,混合后得到混后细粉;

e.将混后细粉取向压制和等静压处理得到钕铁硼压坯;

f.将钕铁硼压坯真空烧结、回火后,得到钕铁硼磁体。

2.根据权利要求1所述的一种烧结钕铁硼氧含量的调控制备方法,其特征是,所述步骤a中,钕铁硼磁体原料按质量百分比组成包括Pr-Nd:31.5%~32.5%;B:0.92%~0.98%;Al:0.1%~0.2%;Cu:0.25~0.32%;Co:0~0.5%;Ga:0~0.5%;Zr:0~0.15%;余量为Fe。

3.根据权利要求1所述的一种烧结钕铁硼氧含量的调控制备方法,其特征是,所述步骤d中,MgO粉末的添加量为钕铁硼细粉质量的0.05~0.25%。

4.根据权利要求1或3所述的一种烧结钕铁硼氧含量的调控制备方法,其特征是,所述步骤d中,MgO粉末的平均粒径为1~3μm。

5.根据权利要求4所述的一种烧结钕铁硼氧含量的调控制备方法,其特征是,所述步骤d中,MgO粉末中粒径大于5μm的粉末占比不大于5%。

6.根据权利要求1所述的一种烧结钕铁硼氧含量的调控制备方法,其特征是,所述步骤b中,氢破时氢气压力0.01~0.09MPa。

7.根据权利要求1所述的一种烧结钕铁硼氧含量的调控制备方法,其特征是,所述步骤c得到的钕铁硼细粉的粒径为3~5μm。

8.根据权利要求1所述的一种烧结钕铁硼氧含量的调控制备方法,其特征是,所述步骤d中,添加剂包括硬脂酸锌、硬脂酸钙和聚乙二醇辛烷中的一种或多种,添加剂的添加量为钕铁硼细粉质量的0.03~0.05%。

9.根据权利要求1所述的一种烧结钕铁硼氧含量的调控制备方法,其特征是,所述步骤f中,真空烧结温度不低于1050℃,烧结时间不少于6h,真空度不低于1×10-3Pa。

10.根据权利要求1所述的一种烧结钕铁硼氧含量的调控制备方法,其特征是,所述步骤f中,回火过程为将真空烧结得到的钕铁硼磁体在800~900℃进行一级热处理2~8h,然后在400~600℃进行二级热处理2~8h。

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