[发明专利]显示面板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示面板，其特征在于，包括阵列分布的像素区和位于相邻两个所述像素区之间的非像素区，还包括

金属单元，对应设于所述像素区；

阳极，设于所述金属单元的一侧表面；

像素定义层，覆盖所述阳极且延伸至所述非像素区，其中，所述像素定义层对应所述阳极开设有像素开孔，所述阳极部分裸露于所述像素开孔内；

发光层，设于所述像素定义层远离所述阳极的一侧表面，且覆盖所述像素开孔的内表面并于所述阳极连接，所述非像素区对应的所述发光层的迁移率小于所述像素区对应的所述发光层的迁移率。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述发光层包括叠层设置的空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、发光单元、空穴阻挡层、电子传输层和电子注入层。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，

所述发光单元对应设于所述像素开孔内，所述发光单元的两端延伸至所述非像素区中。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述金属单元在所述像素开孔内的图案为方形、圆形和菱形中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述金属单元的材料为铝、铂、钯、银、镁、金、镍、钕、铱、铬、锂、钙、钼、钛、钨和铜中的至少一种。

6.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括以下制备步骤：

提供一基板，在所述基板上制备一层金属层，图案化所述金属层形成阵列分布的金属单元；

在所述基板上制备薄膜晶体管结构，在所述薄膜晶体管结构上制备阳极，其中，所述阳极对应所述金属单元；

在所述薄膜晶体管结构上制备像素定义层，在所述像素定义层对应所述阳极处刻蚀像素开孔，其中，所述像素开孔对应区域为像素区，相邻两个像素开孔的区域为非像素区；

在所述像素定义层上制备发光层，所述发光层覆盖所述像素开孔的内表面；

采用激光从所述基板远离所述金属单元的一侧照射所述发光层，使得所述非像素区对应的所述发光层的迁移率小于所述像素区对应的所述发光层的迁移率。

7.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述发光层的具体制备步骤如下：

在所述像素定义层上依次蒸镀空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、发光单元、空穴阻挡层、电子传输层和电子注入层。

8.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法，其特征在于，

所述激光的波长为1000nm～15000nm，功率为3％～20％,光斑尺寸为5μm～15μm，频率为100KH_Z～150KH_Z。

9.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，

在采用所述基板照射所述发光层的步骤之后，所述非像素区中的所述空穴注入层、所述空穴传输层、所述电子阻挡层、所述发光单元、所述空穴阻挡层、所述电子传输层和所述电子注入层中的至少一层的迁移率小于1E^-6cm²/V.S。

10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1～5中任一项所述的显示面板。