[发明专利]显示面板及其制备方法、显示装置

说明书

本申请提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，显示面板包括阵列分布的像素区和位于相邻两个所述像素区之间的非像素区，还包括金属单元，对应设于所述像素区；阳极，设于所述金属单元的一侧表面；像素定义层，覆盖所述阳极且延伸至所述非像素区，其中，所述像素定义层对应所述阳极开设有像素开孔，所述阳极部分裸露于所述像素开孔内；发光层，设于所述像素定义层远离所述阳极的一侧表面，且覆盖所述像素开孔的内表面并于所述阳极连接，所述非像素区对应的所述发光层的迁移率小于所述像素区对应的所述发光层的迁移率。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode,OLED)是一种利用有机半导体材料在电流驱动下产生可逆变色来实现多彩显示的光电技术。OLED具有轻薄，高亮度，主动发光，能耗低，大视角，快速响应，可柔性，工作温度范围宽等优点，被认为是最有发展前途的新一代显示技术。OLED显示器件包括基板、阳极、有机发光层(包括空穴传输层、复合发光层、电子传输层等)、阴极、封装层等。OLED器件的制备通常采用真空蒸镀逐层镀膜来实现的。

目前的OELD显示器的R G B三个子像素的共通层空穴注入层HIL采用的是通用掩膜版(common Open mask)进行蒸镀，避免使用高精细金属掩膜版(Fine Metal Mask，FMM)的使用，以降低成本。如果使用的是载流子迁移率比较慢的公共层材料，会增大电压，导致器件功耗提高，如果使用载流子迁移率比较快的公共层材料，又会造成横向漏流，导致其它像素偷亮，从而影响画面显示效果，比如在低亮模式下，R像素点亮，旁边的G像素也被微弱点亮。

发明内容

本申请提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，以解决显示技术中显示面板在低亮度模式中易出现透亮、混色的技术问题。

本申请提供一种显示面板，包括阵列分布的像素区和位于相邻两个所述像素区之间的非像素区，还包括金属单元，对应设于所述像素区；阳极，设于所述金属单元的一侧表面；像素定义层，覆盖所述阳极且延伸至所述非像素区，其中，所述像素定义层对应所述阳极开设有像素开孔，所述阳极部分裸露于所述像素开孔内；发光层，设于所述像素定义层远离所述阳极的一侧表面，且覆盖所述像素开孔的内表面并于所述阳极连接，所述非像素区对应的所述发光层的迁移率小于所述像素区对应的所述发光层的迁移率。

可选的，在本申请一些实施例中，所述发光层包括叠层设置的空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、发光单元、空穴阻挡层、电子传输层和电子注入层。

可选的，在本申请一些实施例中，所述发光单元对应设于所述像素开孔内，所述发光单元的两端延伸至所述非像素区中。

可选的，在本申请一些实施例中，所述金属单元在所述像素开孔内的图案为方形、圆形和菱形中的至少一种

可选的，在本申请一些实施例中，所述金属单元的材料为铝、铂、钯、银、镁、金、镍、钕、铱、铬、锂、钙、钼、钛、钨和铜中的至少一种。

相应的，本申请还提供了一种显示面板的制备方法，包括以下制备步骤：

提供一基板，在所述基板上制备一层金属层，图案化所述金属层形成阵列分布的金属单元；

在所述基板上制备薄膜晶体管结构，在所述薄膜晶体管结构上制备阳极，其中，所述阳极对应所述金属单元；

在所述薄膜晶体管结构上制备像素定义层，在所述像素定义层对应所述阳极处刻蚀像素开孔，其中，所述像素开孔对应区域为像素区，相邻两个像素开孔的区域为非像素区；

在所述像素定义层上制备发光层，所述发光层覆盖所述像素开孔的内表面；

采用激光从所述基板远离所述金属单元的一侧照射所述发光层，使得所述非像素区对应的所述发光层的迁移率小于所述像素区对应的所述发光层的迁移率。