[发明专利]一种高盐印染废水去除二氧化硅的方法在审
| 申请号： | 202210241924.5 | 申请日： | 2022-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN114573141A | 公开（公告）日： | 2022-06-03 |
| 发明（设计）人： | 姚颖;梁跃施;张良军;区增辉;钱原铬;孔柱文;林云烨 | 申请（专利权）人： | 佛山市佳利达环保科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C02F9/04 | 分类号： | C02F9/04 |
| 代理公司： | 东莞卓为知识产权代理事务所(普通合伙) 44429 | 代理人： | 汤冠萍 |
| 地址： | 528000 广东省佛*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 印染 废水 去除 二氧化硅 方法 | ||
1.一种高盐印染废水去除二氧化硅的方法，其特征在于：包括有以下步骤：
S1、在反应池中投放三氯化铁、液碱以及聚丙，调节PH7.8-8.5经过反应池进行反应、搅拌、絮凝；
S2、将反应池的溶液进行搅拌；
S3、将搅拌后的反应液放入沉淀池进行沉淀；
S4、将反应液进入过滤池进行过滤。
2.根据权利要求1所述的一种高盐印染废水去除二氧化硅的方法，其特征在于：在步骤S1中，所述三氯化铁的浓度为33％,2000PPM，所述液碱的浓度为32％,1000PPM，所述聚丙的浓度为0.32‰,2000PPM。
3.根据权利要求1所述的一种高盐印染废水去除二氧化硅的方法，其特征在于：所述步骤S2中，对高盐印染废水进行搅拌的搅拌时间为1分钟。
4.根据权利要求1所述的一种高盐印染废水去除二氧化硅的方法，其特征在于：所述步骤S3中，反应液放入斜管池进行沉淀时间为10分钟。
5.根据权利要求1所述的一种高盐印染废水去除二氧化硅的方法，其特征在于：在步骤S1中，所述的反应池中设置有搅拌装置，所述搅拌装置用于搅拌混合药剂以及废水。
6.根据权利要求1所述的一种高盐印染废水去除二氧化硅的方法，其特征在于：将S3反应液放入斜管池以及将S4中反应液放入斜管池，均分别通过加压泵以及管道进行传输。
7.根据权利要求1所述的一种高盐印染废水去除二氧化硅的方法，其特征在于：所述步骤S3中，所述沉淀池为斜管沉淀池。
8.根据权利要求1所述的一种高盐印染废水去除二氧化硅的方法，其特征在于：所述步骤S4中，所述过滤池为砂滤池。
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