[发明专利]取向液晶膜的制造方法在审
| 申请号： | 202210244594.5 | 申请日： | 2022-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN115113440A | 公开（公告）日： | 2022-09-27 |
| 发明（设计）人： | 铃木畅;土屋裕;山冈洋平 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337;G02B5/30 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 吴倩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 取向 液晶 制造 方法 | ||
1.一种取向液晶膜的制造方法，其是具备液晶化合物取向了的取向液晶层的取向液晶膜的制造方法，
其具有通过卷对卷方式将取向液晶层与光学层介由活性能量射线固化型粘接剂贴合的贴合工序，
所述贴合工序具有：
在所述取向液晶层及所述光学层中的至少一个表面涂布固化前且温度0℃～45℃的所述粘接剂的涂布工序；以及
在对将所述取向液晶层与所述光学层介由固化前的所述粘接剂层叠而成的层叠体沿着所述层叠体的搬送方向赋予了70N/1000mm宽～550N/1000mm宽的张力的状态下，对所述层叠体照射活性能量射线的照射工序。
2.根据权利要求1所述的取向液晶膜的制造方法，其中，
在所述照射工序中，以累积光量450mJ/cm2～1200mJ/cm2的条件对所述层叠体照射所述活性能量射线。
3.根据权利要求1或2所述的取向液晶膜的制造方法，其中，
在所述涂布工序中，在所述表面涂布温度0℃～10℃的所述粘接剂。
4.根据权利要求1或2所述的取向液晶膜的制造方法，其中，
所述照射工序后的由所述粘接剂形成的层的厚度为0.1μm～3.0μm。
5.根据权利要求1或2所述的取向液晶膜的制造方法，其中，
在所述取向液晶层中，液晶化合物均匀取向。
6.根据权利要求5所述的取向液晶膜的制造方法，其中，
所述贴合工序后的所述取向液晶层的双折射Δn为0.03以上。
7.根据权利要求1或2所述的取向液晶膜的制造方法，其中，所述光学层为起偏器、透明膜、或其他取向液晶层。
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