[发明专利]一种含孔隙靶材的清洗方法

说明书

本发明涉及一种含孔隙靶材的清洗方法，所述清洗方法包括：对含孔隙靶材依次进行第一醇洗、第二醇洗、清洗剂清洗和烘干，得到清洗后的含孔隙靶材；所述清洗剂清洗中采用的清洗剂包括体积比为1:(0.06‑0.18):(0.2‑0.35)的煤油、汽油和柴油；所述柴油为轻柴油。本发明提供的清洗方法，针对含孔隙靶材通过在清洗过程中采用特定的清洗剂实现了孔隙中切削液的去除，同时也避免了洗涤剂在靶材孔隙中的吸附而导致的二次残留。

技术领域

本发明涉及靶材领域，具体涉及一种含孔隙靶材的清洗方法。

背景技术

目前，靶材中有一些陶瓷或粉末冶金材料，其致密度相对较低，材料内部有较多孔隙，这就导致材料机加工时所辅助的切削液容易渗入到材料内部，后续材料在清洗的时候清洗液也会有在材料内部残留，导致在干燥时会有部分渗出到表面。剩余还有一些液体存在靶材内部，客户上机时腔体内抽真空和加热后残余液体再次渗出，从而影响客户靶材的溅射性能。

通常会通过清洗作业来对靶材进行清洗，如CN106334686A一种靶材组合的清洗方法，包括：提供溅射后的靶材组合，所述靶材组合包括残留靶材和背板，所述残留靶材的焊接面与所述背板正面的中央区域焊接在一起，所述背板正面的周边区域暴露在外，所述背板正面的周边区域和侧面在溅射过程中附着有氧化铝；对所述背板进行第一清洗处理，所述第一清洗处理包括采用氢氧化钠溶液清洗所述背板正面的周边区域和所述背板侧面；在所述第一清洗处理后，对所述靶材组合进行第二清洗处理，所述第二清洗处理包括对所述靶材组合进行冲洗。所述清洗方法能够对靶材组合的背板进行充分清洗，使得背板满足后续喷砂工艺的要求。

CN113231893A公开了一种ITO靶材的抛光清洗方法，包括以下步骤：(1)将绑定后的ITO靶材安装于可使ITO靶材旋转的装置上；(2)使60-100目的金刚海绵刷接触靶材待清洗的表面；(3)粗清洗；(4)用800-1200目的金刚海绵刷替换所述60-100目的金刚海绵刷；(5)精抛光，即得清洗后的ITO靶材，所述清洗方法通过步骤(3)的粗清洗和步骤(5)的精抛光，选用不同目数的金刚海绵刷，并且控制打磨的压力和速度，达到靶材表面粗糙度的要求。通过本发明所述清洗方法清洗后的ITO靶材表面粗糙度均匀性好，且Ra＜0.8μm。

然而现有清洗方法针对致密度低即含孔隙靶材是仍存在靶材孔隙内物质无法有效去除进而导致溅射异常的问题。

发明内容

鉴于现有技术中存在的问题，本发明的目的在于一种含孔隙靶材的清洗方法以解决目前针对含孔隙靶材进行清洗时孔隙中的切削液无法有效去除的问题。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

本发明提供了一种含孔隙靶材的清洗方法，所述清洗方法包括：对含孔隙靶材依次进行第一醇洗、第二醇洗、清洗剂清洗和烘干，得到清洗后的含孔隙靶材；

所述清洗剂清洗中采用的清洗剂包括体积比为1:(0.06-0.18):(0.2-0.35)的煤油、汽油和柴油；所述柴油为轻柴油。

本发明提供的清洗方法，针对含孔隙靶材通过在清洗过程中采用特定的清洗剂实现了孔隙中切削液的去除，同时也避免了洗涤剂在靶材孔隙中的吸附而导致的二次残留。

本发明中，含孔隙靶材指致密度≤97％的靶材，致密度低时靶材内部及表面会出现一定量的孔隙，在切削加工时会将孔隙显露，导致切削液进入孔隙中，导致切削液的残留。