[发明专利]一种用于火箭壳体的辊底式淬火装置及淬火方法有效
申请号: | 202210282235.9 | 申请日: | 2022-03-21 |
公开(公告)号: | CN114517249B | 公开(公告)日: | 2023-01-24 |
发明(设计)人: | 李勇;李家栋 | 申请(专利权)人: | 东北大学 |
主分类号: | C21D1/18 | 分类号: | C21D1/18;C21D1/667;C21D9/00 |
代理公司: | 北京易捷胜知识产权代理有限公司 11613 | 代理人: | 韩国胜 |
地址: | 110819 辽宁*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 火箭 壳体 辊底式 淬火 装置 方法 | ||
1.一种用于火箭壳体的辊底式淬火装置,所述火箭壳体为弧形顶盖或锥底,其特征在于,所述辊底式淬火装置包括:
机架(1),所述机架(1)内设置有沿壳体的运动方向上阵列设置有多根辊子(7);
喷嘴机构(4),所述喷嘴机构(4)设置于所述机架(1)内,所述喷嘴机构(4)能够对壳体的内外表面进行同步淬火;
多组升降机构(8),所述升降机构(8)均设置于所述机架(1)上,所述升降机构(8)与所述喷嘴机构(4)连接,所述升降机构(8)能够根据壳体的形状和尺寸,对应调整至少部分所述喷嘴机构(4)的升降状态;
所述喷嘴机构(4)包括沿壳体的运动方向设置的上环形喷嘴组件和多组下固定喷嘴组件;所述上环形喷嘴组件设置于所述升降机构(8)上,以对壳体的外表面进行均匀淬火;多组所述下固定喷嘴组件与多组所述辊子(7)交替间隔设置,以对壳体的内表面进行均匀淬火;
所述上环形喷嘴组件由内到外依次设置有第一环形喷嘴箱(41)、第二环形喷嘴箱(42)和第三环形喷嘴箱(43);所述第一环形喷嘴箱(41)的底端设置有多个第一喷嘴;所述第二环形喷嘴箱(42)的底端设置有多个第二喷嘴;所述第三环形喷嘴箱(43)的底端设置有多个第三喷嘴;所述第一环形喷嘴箱(41)、所述第二环形喷嘴箱(42)和所述第三环形喷嘴箱(43)上均设置有位移传感器;
所述下固定喷嘴组件设置有矩形喷嘴箱(44),所述矩形喷嘴箱(44)的顶端设置有多组下固定喷嘴;
所述第二环形喷嘴箱(42)的顶面顶端与所述第一环形喷嘴箱(41)的顶面平齐,所述第二环形喷嘴箱的顶面底端与所述第三环形喷嘴的顶面顶端平齐,所述第二环形喷嘴箱(42)的内圈高度与所述第一环形喷嘴箱(41)的外圈高度相等,所述第二环形喷嘴箱(42)的外圈高度与所述第三环形喷嘴箱(43)的内圈高度相等;所述第一环形喷嘴箱(41)的外圈的母线、所述第二环形喷嘴箱(42)的内圈的母线和外圈的母线、所述第三环形喷嘴箱(43)的内圈的母线,均互相平行;
所述第一环形喷嘴箱(41)的顶面设置有多根第一导柱(45),所述第二环形喷嘴箱(42)的顶面顶端设置有与所述第一导柱(45)相配合的第一套筒(46),所述第一套筒(46)的底面固定连接于所述第二环形喷嘴箱(42)的顶面顶端;所述第二环形喷嘴箱(42)的顶面设置有多根第二导柱,所述第三环形喷嘴箱(43)的顶面顶端设置有与所述第二导柱相配合的第二套筒,所述第二套筒的底面固定连接于所述第三环形喷嘴箱(43)的顶面顶端;
所述机架(1)为密闭结构;所述机架(1)包括沿壳体的运动方向分隔设置的上框架和下框架;所述升降机构(8)设置于所述上框架上;所述辊子(7)、所述矩形喷嘴箱(44)均设置于所述下框架上;
所述第一环形喷嘴箱(41)、所述第二环形喷嘴箱(42)和所述第三环形喷嘴箱(43)各设置有一组所述升降机构(8);所述升降机构(8)包括液压缸(81)、多组动滑轮(82)和多组定滑轮(83);所述动滑轮(82)与所述机架(1)通过传送带连接,所述液压缸(81)与所述动滑轮(82)的底座连接,所述动滑轮(82)与所述定滑轮(83)通过传送带连接,所述定滑轮(83)与所述第一环形喷嘴箱(41)、所述第二环形喷嘴箱(42)或者所述第三环形喷嘴箱(43)中的任意一个环形喷嘴箱通过传送带连接,所述定滑轮(83)的底座与所述机架(1)连接;所述液压缸(81)与所述位移传感器电连接。
2.如权利要求1所述的用于火箭壳体的辊底式淬火装置,其特征在于,所述辊底式淬火装置还包括入口气刀(2)、挡水机构(3)、淬火水机构、排气机构(5)、干燥机构(6);所述挡水机构(3)设置于所述喷嘴机构(4)的前方;所述入口气刀(2)设置于所述挡水机构(3)的前方;所述排气机构(5)与所述喷嘴机构(4)连通;所述淬火水机构与所述喷嘴机构(4)连通;所述干燥机构(6)设置于所述喷嘴机构(4)的后方。
3.如权利要求2所述的用于火箭壳体的辊底式淬火装置,其特征在于,所述淬火水机构包括淬火水循环单元(B)、淬火水再冷却单元(C)和淬火池(D);所述淬火池(D)设置于所述下框架的下方;所述淬火水循环单元(B)与所述淬火池(D)连通,并能够将所述淬火池(D)的冷却水输送至所述喷嘴机构(4);所述淬火水再冷却单元(C)与所述淬火池(D)连通,并能够对所述淬火池(D)的冷却水进行降温。
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