[发明专利]一种连续式ALD镀膜设备

权利要求书

1.一种连续式ALD镀膜设备，其特征在于，包含：

箱体组件，包括依次连接的加热腔体(12)、连接腔体(5)和冷却腔体(9)；所述加热腔体(12)设置有加热腔室(6)；所述连接腔体(5)内设置有用以给工件镀膜的镀膜腔室(10)；所述冷却腔体(9)设置有冷却腔室(3)；所述加热腔室(6)和所述冷却腔室(3)分别能够连通于所述镀膜腔室(10)；

真空组件，其接合于所述箱体组件，用以抽真空，从而使得所述加热腔室(6)和所述冷却腔室(3)能够真空连接于所述镀膜腔室(10)；

驱动组件，其接合于所述箱体组件，用以驱使工件在所述加热腔室(6)、所述镀膜腔室(10)和所述冷却腔室(3)之间移动；

检测组件，其接合于所述箱体组件，用以检测工件或者承载工件的载盘组件(7)。

2.根据权利要求1所述的一种连续式ALD镀膜设备,其特征在于,所述箱体组件包括设置有所述镀膜腔室(10)的镀膜腔体(4)；所述连接腔体(5)设置有连接腔室(11)；所述镀膜腔体(4)配置于所述连接腔室(11)，且所述镀膜腔室(10)能够通过所述连接腔室(11)连通于所述加热腔室(6)和所述冷却腔室(3)；

所述真空组件分别连通于所述加热腔室(6)、所述冷却腔室(3)、所述连接腔室(11)，以及所述镀膜腔室(10)，用以抽真空，从而使得所述加热腔室(6)和所述冷却腔室(3)能够通过所述连接腔室(11)真空连接于所述镀膜腔室(10)。

3.根据权利要求2所述的一种连续式ALD镀膜设备,其特征在于,连续式ALD镀膜设备还包括密封组件；所述密封组件包括四个插板门(2)；第一个插板门(2)和第二个插板门(2)分别用以连通所述镀膜腔室(10)和所述连接腔室(11)；第三个插板门(2)用以连通所述加热腔室(6)和所述连接腔室(11)；第四个插板门(2)用以连通所述连接腔室(11)和所述冷却腔室(3)；其中，所述第一个插板门(2)和所述第三个插板门(2)平行；所述第二个插板门(2)和所述第四个插板门(2)平行。

4.根据权利要求3所述的一种连续式ALD镀膜设备,其特征在于,所述第一个插板门(2)和所述第二个插板门(2)配置于所述连接腔体(5)；所述第三个插板门(2)配置于所述加热腔体(12)；所述第四个插板门(2)配置于所述冷却腔体(9)；其中，所述第一个插板门(2)和所述第二个插板门(2)平行，以使所述加热腔体(12)、所述连接腔体(5)和所述冷却腔体(9)沿着直线依次连接。

5.根据权利要求2所述的一种连续式ALD镀膜设备,其特征在于,所述镀膜腔体(4)的顶部设置有连通所述镀膜腔室(10)的输料孔(21)；

所述箱体组件还包括接合于所述连接腔体(5)的波纹管(19)、接合于所述波纹管(19)的连接板(20)、接合于所述连接板(20)的输料管(17)，以及能够接合于所述连接板(20)和所述连接腔体(5)之间的第一伸缩顶紧构件(18)；所述连接板(20)设置有连通所述波纹管(19)的连接通孔(30)；所述输料管(17)密封连接于所述连接通孔(30)，且穿过所述波纹管(19)延伸至所述连接腔体(5)外；所述第一伸缩顶紧构件(18)用以将所述连接板(20)抵接在所述镀膜腔体(4)上，从而让所述连接通孔(30)密封连接于所述输料孔(21)。

6.根据权利要求5所述的一种连续式ALD镀膜设备,其特征在于,所述连接通孔(30)、所述波纹管(19)和所述输料管(17)的数量一一对应，且均为至少两个；其中，至少一个所述输料管(17)用以供第一种前驱体通过；至少一个所述输料管(17)用以供第二种前驱体通过。

7.根据权利要求2所述的一种连续式ALD镀膜设备,其特征在于,所述镀膜腔体(4)底部设置有连通所述镀膜腔室(10)的排料孔(23)；所述连接腔体(5)的底部设置有连通所述连接腔室(11)的第一连接孔(15)；所述镀膜腔体(4)位于所述第一连接孔(15)的上方，以使所述排料孔(23)密封连接于所述第一连接孔(15)；所述真空组件接合于所述第一连接孔(15)，用以对所述镀膜腔室(10)进行抽真空。