[发明专利]印制电路板的布局参数确定方法、装置及存储介质

权利要求书

1.一种印制电路板的布局参数确定方法，所述印制电路板表面设置有多个元件，在所述元件远离所述印制电路板的一侧贴覆有屏蔽层，所述屏蔽层覆盖所有所述元件，并且与所述印制电路板之间具有粘接区，其特征在于，所述布局参数确定方法包括：

确定位于第一区域内的所述屏蔽层的第一形变量与相邻的两个所述元件之间的间距之间的第一关联关系，其中，所述第一区域为所述屏蔽层覆盖所有所述元件的区域；

确定位于第二区域内的所述屏蔽层的第二形变量与所述第二区域内所述屏蔽层的宽度之间的第二关联关系，其中，所述第二区域为所述屏蔽层除去所述第一区域以及所述粘接区以外的区域；

将相邻的两个所述元件之间的高度差作为所述第一形变量，结合所述第一关联关系确定所述间距；

将位于所述印制电路板边缘的元件高度的1/2作为所述第二形变量，结合所述第二关联关系确定所述宽度；

根据所述间距进行所述印制电路板上所述元件的布局设计，根据所述宽度确定所述屏蔽层尺寸。

2.根据权利要求1所述的布局参数确定方法，其特征在于，所述确定位于第一区域内的所述屏蔽层的第一形变量与相邻的两个所述元件之间的间距之间的第一关联关系，包括：

建立所述第一区域内的屏蔽层的第一等效模型；

基于简支梁模型对所述第一等效模型进行推导，以确定所述第一关联关系。

3.根据权利要求2所述的布局参数确定方法，其特征在于，所述第一关联关系基于如下公式表示：

δ₁＝k₁Fd³ (1)

其中，δ₁为所述第一形变量，k₁为形变系数，F为所述第一区域内的屏蔽层收到的外力，d为所述间距。

4.根据权利要求1所述的布局参数确定方法，其特征在于，所述确定位于第二区域内的所述屏蔽层的第二形变量与所述第二区域内所述屏蔽层的宽度之间的第二关联关系，包括：

建立所述第二区域内的屏蔽层的第二等效模型；

基于有限元分析对所述第二等效模型进行推导，以确定所述第二形变量与所述第二区域内所述屏蔽层的宽度在所述印制电路板上的投影值之间的第三关联关系；

基于勾股定理和所述第三关联关系，确定所述第二关联关系。

5.根据权利要求4所述的布局参数确定方法，其特征在于，所述第三关联关系基于如下公式表示：

δ₂＝(k₂L⁴+k₃L³+k₄L²+k₅L+k₆)F (2)

其中，δ₂为所述第二形变量，F为所述第二区域内的屏蔽层收到的外力，k₂、k₃、k₄、k₅以及k₆均为形变系数，L为所述投影值；

所述第二关联关系基于如下公式表示：

其中，c为所述宽度。

6.根据权利要求5所述的布局参数确定方法，其特征在于，所述将位于所述印制电路板边缘的元件高度的1/2作为所述第二形变量，结合所述第二关联关系确定所述宽度，包括：

基于所述有限元分析确定所述形变系数的值；

基于所述形变系数的值形成所述第二形变量与所述投影值之间的关联函数曲线，在所述第二形变量为位于所述印制电路板边缘的元件高度的1/2的情况下，根据所述关联函数曲线确定所述投影值的值；

将所述投影值的值以及所述第二形变量代入至公式(3)，以确定所述宽度的值。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的布局参数确定方法，其特征在于，所述屏蔽层包括依次设置的绝缘层和电磁层，其中，所述绝缘层设置在所述元件远离所述印制电路板的一侧，所述电磁层设置在所述绝缘层远离所述元件的一侧。