[发明专利]氧化铝抛光液及其制备方法

说明书

本发明涉及抛光液技术领域，具体而言，涉及氧化铝抛光液及其制备方法；氧化铝抛光液的制备原料包括：氧化铝微粉、α萘酚聚氧乙烯醚、多元醇、羧酸钠盐、消泡剂和pH调节剂；其中，pH调节剂包括有机碱和无机碱的复配混合物。本发明的氧化铝抛光液的制备方法包括：向用多元醇配置的溶液中添加羧酸钠盐；再添加氧化铝微粉；再添加α萘酚聚氧乙烯醚和消泡剂。本发明的氧化铝抛光液有利于得到表面质量较好的碳化硅晶片。

技术领域

本发明涉及抛光液技术领域，具体而言，涉及氧化铝抛光液及其制备方法。

背景技术

碳化硅单晶具有优良的光学、物理和介电性能，在光电子、通讯、国防、新能源汽车等领域有广泛的应用。但碳化硅的硬度高，能够达到莫氏硬度9.5级，其极难被抛光。

相关技术提供了化学机械抛光技术(Chemical Mechanical Polishing，CMP)，其是一种属于化学作用和机械作用相结合的抛光技术；在使用化学机械抛光技术时，磨料硬度、分散程度、pH值、抛光液的流动性和抛光液自身的性质等都具有重要的影响。

相关技术提供的抛光液不利于得到较好的表面质量的碳化硅晶片。

发明内容

本发明的目的在于提供氧化铝抛光液及其制备方法，该氧化铝抛光液有利于得到表面质量较好的碳化硅晶片。

本发明是这样实现的：

第一方面，本发明提供一种氧化铝抛光液，包括氧化铝微粉、α萘酚聚氧乙烯醚、多元醇、羧酸钠盐、消泡剂、pH调节剂和溶剂，且按照重量份计，氧化铝抛光液包括：

10-30份氧化铝微粉、0.02-2份α萘酚聚氧乙烯醚、40-85份多元醇、0.01-2份羧酸钠盐、0.01-2份消泡剂和1-2份pH调节剂；

其中，pH调节剂包括有机碱和无机碱的复配混合物；

所述溶剂为水。

在可选的实施方式中，有机碱包括四甲基氢氧化铵、三乙醇胺和单乙醇胺的混合溶液，无机碱包括浓度为1mol/L的氢氧化钾溶液；

优选地，四甲基氢氧化铵、三乙醇胺和单乙醇胺的质量比为1:2:3，其中，四甲基氢氧化铵的质量分数为10％，三乙醇胺的质量分数为97％，单乙醇胺的质量分数为99.8％；

优选地，混合溶液和氢氧化钾溶液的质量比为1:3。

在可选的实施方式中，氧化铝微粉包括α相4N级氧化铝微粉。

在可选的实施方式中，氧化铝微粉的粒径为0.1-0.3μm。

在可选的实施方式中，多元醇包括乙二醇、丙二醇和甘油中的至少一种。

在可选的实施方式中，消泡剂包括非硅型消泡剂、聚醚型消泡剂、有机硅型消泡剂和聚醚改性有机硅型消泡剂中的至少一种。

在可选的实施方式中，羧酸钠盐包括脱氢乙酸钠、苯甲酸钠和双乙酸钠中的至少一者。

在可选的实施方式中，氧化铝抛光液的pH值为12-13。

第二方面，本发明提供一种前述实施方式任一项的氧化铝抛光液的制备方法，包括：向用多元醇与水混合配置的溶液中添加羧酸钠盐；

添加氧化铝微粉；

添加α萘酚聚氧乙烯醚和消泡剂；

用pH调节剂调节pH值为碱性。

在可选的实施方式中，氧化铝抛光液的制备方法还包括：用pH调节剂调节pH值的步骤，包括：滴加pH调节剂，直到溶液的pH值为12-13。

本发明具有以下有益效果：