[发明专利]薄膜沉积装置及其布气机构

权利要求书

1.一种薄膜沉积装置的布气机构，其特征在于，包括沿第一方向依次设置的喷淋背板、均气板、匀流板和喷淋板；

其中，所述喷淋背板和所述喷淋板共同形成喷淋头，所述均气板和所述匀流板位于所述喷淋头内，所述匀流板和所述喷淋背板之间形成第一均气腔，所述匀流板和所述喷淋板之间形成第二均气腔，所述均气板设于所述第一均气腔内；所述喷淋背板在面对所述均气板的位置设有第一通孔；所述均气板设有贯通的均气孔；所述匀流板设有贯通的匀流孔，所述匀流孔用于使所述工艺气体从所述第一均气腔进入所述第二均气腔；所述喷淋板设有贯通的喷淋孔。

2.根据权利要求1所述的薄膜沉积装置的布气机构，其特征在于，还包括第一进气管和进气法兰，所述第一进气管的出口与所述进气法兰相连，所述第一进气管和所述进气法兰位于所述喷淋背板背离所述均气板的一侧；所述第一通孔和所述进气法兰的内壁形成进气口；在所述第一方向上，所述进气口的直径逐渐增大，且所述均气孔和所述匀流孔错开，所述匀流孔和所述喷淋孔错开。

3.根据权利要求1所述的薄膜沉积装置的布气机构，其特征在于，还包括至少两个第一连接组件，用于将所述匀流板、所述喷淋板以及所述喷淋背板固定相连。

4.根据权利要求3所述的薄膜沉积装置的布气机构，其特征在于，所述第一连接组件包括第一紧固件，所述喷淋背板设有用于安装所述第一紧固件的第二通孔，所述匀流板设有供所述第一紧固件穿设的第三通孔，所述喷淋板设有用于安装所述第一紧固件的第四通孔；

其中，所述第四通孔与所述喷淋孔的位置重合，所述喷淋板在所述第四通孔的周侧设有至少两个斜孔，所述斜孔的一端与所述匀流板和所述喷淋板之间的空腔连通，另一端与所述第四通孔连通。

5.根据权利要求4所述的薄膜沉积装置的布气机构，其特征在于，所述第一连接组件还包括：

凸台，位于所述喷淋背板和所述匀流板之间，在所述第一方向上，所述凸台的高度大于或等于所述喷淋背板和所述匀流板之间的距离；所述凸台设有供所述第一紧固件穿设的第五通孔；

定位环，位于所述匀流板和所述喷淋板之间，在所述第一方向上，所述定位环的高度大于或等于所述匀流板和所述喷淋板之间的距离；所述定位环设有供所述第一紧固件穿设的第六通孔。

6.根据权利要求1所述的薄膜沉积装置的布气机构，其特征在于，还包括位于所述喷淋板和所述喷淋背板的周侧的绝缘板组，在所述第一方向上，所述绝缘板组的一端和所述喷淋背板背离所述喷淋板的表面对齐，另一端超出所述喷淋板背离所述喷淋背板的表面；

和/或，所述绝缘板组包括第一绝缘板和第二绝缘板，所述第一绝缘板沿所述第一方向延伸，所述第二绝缘板垂直于所述第一方向延伸。

7.一种薄膜沉积装置，其特征在于，包括：

如权利要求1-6中任一项所述的布气机构；

主体，所述主体内具有反应腔，至少部分所述布气机构位于所述反应腔内；所述主体包括腔盖，所述腔盖和所述喷淋背板固定相连；

载板，用于盛放待加工产品；所述载板位于所述反应腔内，且位于所述喷淋板背离所述喷淋背板的一侧。

8.根据权利要求7所述的薄膜沉积装置，其特征在于，所述反应腔的边长至少为2米。

9.根据权利要求7所述的薄膜沉积装置，其特征在于，还包括第二连接组件，用于连接所述腔盖和所述喷淋背板，所述第二连接组件包括：

第二紧固件；

第一绝缘环，所述第一绝缘环位于所述腔盖和所述喷淋背板之间，所述第二紧固件穿设于所述腔盖和所述第一绝缘环固定于所述喷淋背板；

第一隔离件，设于所述第二紧固件和所述腔盖之间；

第一盖板，设于所述腔盖背离所述喷淋背板的一侧，且与所述第一隔离件相连。