[发明专利]变焦跟踪曲线的校准方法、装置、电子装置和存储介质

权利要求书

1.一种变焦跟踪曲线的校准方法，其特征在于，所述方法包括：

利用最小二乘法对预设的与待校准镜头匹配的第一曲线进行线性拟合，得到对应所述第一曲线的函数集合，其中，所述函数集合包括多段线性函数；

确定每段线性函数的端点为曲线校准点，分别控制所述待校准镜头在每个曲线校准点所对应的变焦位置下进行对焦操作，并获取所述待校准镜头在每个曲线校准点所对应的变焦位置下的实际对焦位置；

根据所述待校准镜头在每个曲线校准点所对应的变焦位置下的实际对焦位置，确定与所述待校准镜头对应的第二曲线，并将所述第二曲线作为所述待校准镜头的变焦跟踪曲线。

2.根据权利要求1所述的变焦跟踪曲线的校准方法，其特征在于，所述方法还包括：

根据预设规则从所述函数集合中选择多个端点作为畸变校准点；

分别控制所述待校准镜头在每个畸变校准点所对应的变焦位置下进行对焦操作，并获取所述待校准镜头在每个畸变校准点所对应的变焦位置下的实际对焦位置；

根据在所述第一曲线中与每个畸变校准点对应的变焦位置和理论对焦位置，建立相邻的两个畸变校准点之间的第一线性函数；

根据与每个畸变校准点对应的变焦位置和实际对焦位置，建立相邻的两个畸变校准点之间的第二线性函数；

确定所述第一线性函数的第一斜率，以及与所述第一线性函数对应的第二线性函数的第二斜率；

根据所述第二斜率与所述第一斜率之间的比值，分别对所述函数集合中的每段线性函数进行校准。

3.根据权利要求2所述的变焦跟踪曲线的校准方法，其特征在于，根据所述第二斜率与所述第一斜率之间的比值，分别对所述函数集合中的每段线性函数进行校准包括：

将所述函数集合中对应所述第一斜率和所述第二斜率的相邻的两个畸变校准点之间的每段线性函数的斜率均乘以所述比值，得到所述函数集合中的每段线性函数所对应的校准斜率；

根据每段线性函数所对应的校准斜率，以及与每个畸变校准点对应的变焦位置和实际对焦位置，得到与所述待校准镜头对应的校准函数集合，并将所述校准函数集合组成的第三曲线作为所述待校准镜头的变焦跟踪曲线。

4.根据权利要求2所述的变焦跟踪曲线的校准方法，其特征在于，根据预设规则从所述函数集合中选择多个端点作为畸变校准点包括：

从所述函数集合的多个端点中选择起始点、终点、波峰点、向上斜率达到预设阈值的端点以及向下斜率达到预设阈值的端点作为畸变校准点。

5.根据权利要求1所述的变焦跟踪曲线的校准方法，其特征在于，利用最小二乘法对预设的与待校准镜头匹配的第一曲线进行线性拟合，得到对应所述第一曲线的函数集合包括：

利用最小二乘法对所述第一曲线中的第一坐标点和第二坐标点进行线性回归计算，得到对应所述第一坐标点和所述第二坐标点的线性函数；

将所述线性函数与所述第一曲线进行比较，确定所述线性函数中的每个坐标点所对应误差是否均处于预设的误差区间内；

在所述线性函数中每个所述坐标点所对应的误差均处于所述误差区间内时，确定所述第二坐标点的下一个坐标点为终点，并利用最小二乘法重新建立线性函数，以及确定重新建立后的线性函数中每个所述坐标点所对应的误差是否均落入预设的误差区间内；

在重新建立后的线性函数中至少一个所述坐标点所对应的误差未处于所述误差区间时，将重新建立前的线性函数加入所述函数集合，并将重新建立前的线性函数的终点作为下一段线性函数的起始点，并利用最小二乘法建立下一段线性函数，直至所述第一曲线中的所有坐标点被所述函数集合覆盖。

6.根据权利要求5所述的变焦跟踪曲线的校准方法，其特征在于，将所述线性函数与所述第一曲线进行比较，确定所述线性函数中的每个坐标点所对应误差是否均处于预设的误差区间内包括：

将所述线性函数中的坐标点所对应的函数值，与所述坐标点在所述第一曲线上所对应的理论对焦位置进行比较，确定所述函数值与所述理论对焦位置之间的误差是否均处于所述误差区间内。