[发明专利]清洗装置

说明书

本发明公开了一种清洗装置，用于清洗晶圆传输设备，晶圆传输设备包括晶圆支撑臂，清洗装置包括第一清洗块和第二清洗块；其中：第一清洗块和第二清洗块中的至少一者开设有介质入口，第一清洗块和第二清洗块均设有多个介质出口；第一清洗块和第二清洗块可相对运动以对接形成清洗空间，清洗空间用于容纳晶圆支撑臂，且第一清洗块和第二清洗块形成的结构用于环绕晶圆支撑臂，多个介质出口沿清洗空间的内壁设置，以用于环绕晶圆支撑臂。上述方案可以解决清洗装置只能从一侧对晶圆支撑臂进行清洗，而存在对晶圆支撑臂清洗不完全的问题。

技术领域

本发明涉及半导体设备清洗技术领域，尤其涉及一种清洗装置。

背景技术

晶圆是一种精密的半导体器件，为了防止晶圆在传输过程中被污染或损坏，在对晶圆传输前，需要对晶圆传输设备的用于承载晶圆的晶圆支撑臂进行清洗，以防止晶圆支撑臂在承载晶圆时，由于晶圆支撑臂的脏污造成晶圆的污染或损坏。

在相关技术中，对晶圆支撑臂进行清洗的装置通常包括清洗喷淋杆和干燥吹扫杆。干燥吹扫杆和清洗喷淋杆上下分布，由于晶圆支撑臂比较长，清洗喷淋杆和干燥吹扫杆成排设置。在对晶圆支撑臂进行清洗时，晶圆支撑臂依次移动至靠近清洗喷淋杆和干燥吹扫杆处进行清洗。在移动至靠近清洗喷淋杆处时，清洗喷淋杆分布在晶圆支撑臂的轴线的侧方，清洗喷淋杆只能在一侧对晶圆支撑臂进行喷淋清洗，在移动至靠近干燥吹扫杆处时，干燥吹扫杆也分布在晶圆支撑臂的轴线的侧方，干燥吹扫杆也只能对晶圆支撑臂的一侧进行干燥和吹扫，因此，清洗喷淋杆和干燥吹扫杆对晶圆支撑臂进行清洗时只能对晶圆支撑臂的一侧进行清洗，而对晶圆支撑臂的背离清洗喷淋杆和干燥吹扫杆的一侧无法清洗，从而存在对晶圆支撑臂清洗不完全的问题，而且清洗喷淋杆和干燥吹扫杆为多根杆件、且成排设置，从而导致清洗喷淋杆和干燥吹扫杆整体的占用空间较大。

发明内容

本发明公开了一种清洗装置，以解决清洗装置只能从一侧对晶圆支撑臂进行清洗而存在对晶圆支撑臂清洗不完全的问题。

为了解决上述技术问题，本发明是这样实现的：

本发明公开一种清洗装置，用于清洗晶圆传输设备，所述晶圆传输设备包括晶圆支撑臂，所述清洗装置包括第一清洗块和第二清洗块；其中：

所述第一清洗块和所述第二清洗块中的至少一者开设有介质入口，所述第一清洗块和所述第二清洗块均设有多个介质出口；

所述第一清洗块和所述第二清洗块可相对运动以对接形成清洗空间，所述清洗空间用于容纳所述晶圆支撑臂，且所述第一清洗块和所述第二清洗块形成的结构用于环绕所述晶圆支撑臂，所述多个介质出口沿所述清洗空间的内壁设置，以用于环绕所述晶圆支撑臂。

本发明采用的技术方案能够达到以下技术效果：

本申请实施例通过将清洗装置设置为包括第一清洗块和第二清洗块，第一清洗块和第二清洗块可相对运动以对接形成清洗空间，使得清洗装置对晶圆支撑臂进行清洗时，清洗空间可容纳晶圆支撑臂，以为晶圆支撑臂提供清洗场所，通过第一清洗块和第二清洗块中的至少一者开设介质入口，第一清洗块和第二清洗块均开设有多个介质出口，使得清洗介质可通过介质入口进入，从介质出口喷出以用于对晶圆支撑臂进行清洗，通过将多个介质出口沿清洗空间的内壁设置，且用于环绕晶圆支撑臂，使得清洗空间容纳晶圆支撑臂时，多个介质出口环绕晶圆支撑臂，进而使得从介质出口喷出的清洗介质可环绕的喷向晶圆支撑臂，从而有效地解决了在对晶圆支撑臂进行清洗时，由于只能从单侧对晶圆支撑臂进行清洗而存在清洗不完全的问题，最终有效地提高了清洗装置对晶圆支撑臂的清洗能力。

附图说明

图1为清洗装置与晶圆支撑臂在第一清洗块与第二清洗块处在第一配合状态下的配合示意图；

图2为清洗装置在第一清洗块与第二清洗块处在第二配合状态下的结构示意图；

图3为图1在第一视角下的示意图；