[发明专利]分层式颅骨修补材料及其制备方法

权利要求书

1.一分层式颅骨修补材料，其特征在于，包括：

第一层结构，其中所述第一层结构包括第一主体结构和形成于所述第一主体结构的第一结构图案；和

第二层结构，其中所述第二层结构适于叠置于所述第一层结构并且包括第二主体结构和形成于所述第二主体结构的第二结构图案；

其中，所述第一结构图案和所述第二结构图案适于共同形成至少一微孔道结构，每一所述微孔道结构包括一连通道，其中所述分层式颅骨修补材料的上表面的第一位置和第二位置藉由所述连通道连通，其中所述第一层结构的上表面和所述第二层结构的下表面分别形成所述分层式颅骨修补材料的相对的上表面和下表面。

2.根据权利要求1所述的分层式颅骨修补材料，其中，所述第一结构图案包括至少二孔道，所述至少二孔道中的至少二孔道贯穿所述第一层结构的上表面和与其相对的所述第一层结构的下表面。

3.根据权利要求2所述的分层式颅骨修补材料，其中，所述第二结构图案包括相对于所述第二主体结构的上表面向下凹陷的至少一下凹槽，所述至少一下凹槽中至少一下凹槽对应于所述至少二孔道中至少二孔道，以与所述至少二孔道形成所述至少一连通道。

4.根据权利要求3所述的分层式颅骨修补材料，其中，所述至少二孔道包括第一孔道和第二孔道，所述第一孔道和所述第二孔道从所述第一层结构的上表面延伸至所述第一层结构的下表面的同一位置处。

5.根据权利要求4所述的分层式颅骨修补材料，其中，所述至少一下凹槽中至少一下凹槽与所述第一孔道和所述第二孔道连通。

6.根据权利要求4所述的分层式颅骨修补材料，其中，所述第一孔道从所述第一层结构的上表面的第一位置向下倾斜地延伸，所述第二孔道孔从所述第一层结构的上表面的第二位置向下倾斜地延伸，所述第一孔道和所述第二孔道的斜率符号相反，由所述第一孔道和所述第二孔道形成的所述连通道为V型通道。

7.根据权利要求3所述的分层式颅骨修补材料，其中，所述至少二孔道包括第一孔道和第二孔道，所述第一孔道和所述第二孔道从所述第一层结构的上表面延伸至所述第一层结构的下表面的不同位置，所述至少一下凹槽中至少一下凹槽与所述第一孔道和所述第二孔道连通，且延伸于所述第二层结构的与所述第一孔道对应的位置和与所述第二孔道对应的位置之间。

8.根据权利要求3所述的分层式颅骨修补材料，其中，所述至少一连通道包括多个连通道，所述至少一下凹槽中至少一下凹槽连通于所述多个连通道中至少二连通道之间。

9.根据权利要求8所述的分层式颅骨修补材料，其中，所述至少一下凹槽中至少一下凹槽自所述至少一连通道向所述第一主体结构的外周缘延伸。

10.根据权利要求8所述的分层式颅骨修补材料，其中，所述至少二孔道包括多个孔道以形成孔道阵列，所述至少一下凹槽中至少一下凹槽对应于所述孔道阵列中的至少一行孔道。

11.根据权利要求10所述的分层式颅骨修补材料，其中，所述至少一下凹槽中至少一下凹槽对应于所述孔道阵列中的至少一列孔道。

12.根据权利要求3所述的分层式颅骨修补材料，其中，所述第一结构图案进一步包括相对于所述第一主体结构的下表面向内凹陷的至少一上凹槽，所述至少一上凹槽中至少一上凹槽对应于所述至少二孔道中至少二孔道。

13.根据权利要求12所述的分层式颅骨修补材料，其中，所述至少一上凹槽中所有的上凹槽与所述至少一下凹槽中所有的下凹槽连通。