[发明专利]一种用于熔融石英半球谐振子的运动轨迹发生装置及化学蚀刻装置

说明书

一种用于熔融石英半球谐振子的运动轨迹发生装置及化学蚀刻装置，运动轨迹发生装置包含第一电机、第一安装座、基座、曲柄回转机构和夹持装置；曲柄回转机构包含曲柄、连杆、摇杆和支撑杆；第一电机安装在第一安装座上，第一安装座固定在基座上，曲柄可转动地设置在基座上，连杆的一端与曲柄转动连接，连杆的另一端与摇杆转动连接，第二安装座固定在摇杆的另一端，第二电机固定在第二安装座上。化学蚀刻装置包含运动轨迹发生装置、旋转台、化学蚀刻液槽、去离子水槽、无水乙醇槽和安装基座；旋转台、化学蚀刻液槽、去离子水槽和无水乙醇槽均固定在安装基座上。本发明可实现熔融石英半球谐振子的运动轨迹和化学蚀刻。

技术领域

本发明涉及一种化学处理装置，具体涉及一种用于熔融石英半球谐振子的运动轨迹发生装置及化学蚀刻装置。

背景技术

半球谐振陀螺是一种通过检测半球谐振子唇缘驻波进动效应实现基座旋转测量的新型固体陀螺。半球谐振陀螺结构简单，内部无相对运动部件，内部功耗小，对磁场不敏感，潜在失效因素少等特点，使其具备很高的测量精度、超强的稳定性和可靠性，良好的抗冲击振动性以及高动态、低噪声的优点。因此，半球谐振陀螺目前已在海、陆、空、天等领域中得到了广泛应用，并仍具备良好的发展前景。

半球谐振陀螺结构简单，但其制造工艺流程相对复杂，对制造工艺精度要求高，熔融石英半球谐振子是半球谐振陀螺的核心部件，其品质因数直接影响半球谐振陀螺的测量精度。半球谐振子加工过程中化学蚀刻工艺通过去除机械加工过程中产生的损伤层及杂质，可以使熔融石英半球谐振子的品质因数提高1-2个数量级，充分提高半球谐振陀螺的测量精度，化学蚀刻工艺主要通过将熔融石英半球谐振子浸入专用的化学蚀刻液中，通过化学反应去除机械加工过程中在半球谐振子表面形成的损伤层及附着的杂质，因此，化学蚀刻工艺环节是半球谐振陀螺生产加工过程中的关键环节，化学蚀刻工艺主要通过将熔融石英半球谐振子浸入专用的化学蚀刻液中，通过化学反应去除机械加工过程中在半球谐振子表面形成的损伤层及附着的杂质。

发明内容

本发明为克服现有技术不足，提供一种用于熔融石英半球谐振子的运动轨迹发生装置及化学蚀刻装置。

一种用于熔融石英半球谐振子的运动轨迹发生装置包含第一电机、第一安装座、基座、曲柄回转机构和夹持装置；所述曲柄回转机构包含曲柄、连杆、摇杆和支撑杆；所述夹持装置包含第二电机、第二安装座、锁紧套组件和夹持组件；所述第一电机为带有编码器的直流电机，第一电机安装在第一安装座上，第一安装座固定在基座上，曲柄可转动地设置在基座上，支撑杆垂直设置在基座上，支撑杆的一端固定在基座上，支撑杆的另一端与摇杆的一端转动连接，连杆的一端与曲柄转动连接，连杆的另一端与摇杆转动连接，第二安装座固定在摇杆的另一端，第二电机固定在第二安装座上，用于固定熔融石英半球谐振子的夹持组件固定在锁紧套组件上，锁紧套组件固定在第二电机的输出轴上，所述锁紧套组件和夹持组件中与蚀刻药品池内的蚀刻液直接接触的部件为抗腐蚀性材质。

一种化学蚀刻装置包含运动轨迹发生装置、旋转台、化学蚀刻液槽、去离子水槽、无水乙醇槽和安装基座；旋转台、化学蚀刻液槽、去离子水槽和无水乙醇槽均固定在安装基座上，旋转台的旋转平台的轴线竖向设置，运动轨迹发生装置的支撑座固定在旋转台的旋转平台上，在安装基座上围绕旋转台布置有化学蚀刻液槽、去离子水槽和无水乙醇槽；旋转平台运动时，运动轨迹发生装置上的熔融石英半球谐振子位于化学蚀刻液槽、去离子水槽或者无水乙醇槽的上方。

本发明相比现有技术的有益效果是：

1、本发明采用曲柄回转结构约束熔融石英半球谐振子往复运动轨迹，降低直流电机控制复杂度，提高装置可靠性。

2、通过带编码器的直流电机实现熔融石英半球谐振子的运动轨迹，便于掌控熔融石英半球谐振子的化学蚀刻时间，提高化学蚀刻效率，并有助于熔融石英半球谐振子化学蚀刻工艺的批量化、规范化发展。

3、结束位置时，熔融石英半球谐振子向上倾斜，便于残余化学蚀刻液流入蚀刻药品池，避免残余化学蚀刻液对熔融石英半球谐振子品质因数带来的影响，同时避免出现安全隐患。