[发明专利]一种基于空角一致性光场抠图评价方法及装置在审

专利信息
申请号: 202210404986.3 申请日: 2022-04-18
公开(公告)号: CN114742846A 公开(公告)日: 2022-07-12
发明(设计)人: 邱钧;刘畅;刘天艺;何迪 申请(专利权)人: 北京信息科技大学
主分类号: G06T7/11 分类号: G06T7/11;G06T7/194;G06T7/50
代理公司: 北京汇智胜知识产权代理事务所(普通合伙) 11346 代理人: 赵立军
地址: 100192 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 一致性 光场抠图 评价 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种基于空角一致性光场抠图评价方法,其特征在于,包括:

步骤1,提取光场数据的中心子孔径图像;

步骤2,计算光场数据的视差图和光场数据中心子孔径图像alpha图;

步骤3,对中心子孔径图像alpha图进行传播,获取光场alpha图;

步骤4,通过式(1)提供的在空间域获取的空角一致性评价指标S-cons,对光场alpha图中的光场数据空角一致性进行评价:指标S-cons取值范围在(0-1),指标S-cons越接近1,代表边界区域方差越小,光场数据的空角一致性越好,指标S-cons越接近0,光场数据的空角一致性越差;

式中,NEPI为光场alpha图的EPI的数量,Ej为对应的第j张EPI,每一张EPI中会有l个边界区域,记为Ωl,Nl为第j张EPI中Ωl区域的像素总个数,Eji为光场alpha图第j张EPI中第i个像素,为第j张EPI中Ωl边界处像素值的均值。

2.如权利要求1所述的基于空角一致性光场抠图评价方法,其特征在于,步骤2中的视差图disp(x,y)的计算公式为式(2):

disp(x,y)=F/Z(x,y)+F (2)

式中,F为相机的焦距,Z(x,y)为场景的深度图。

3.如权利要求1或2所述的基于空角一致性光场抠图评价方法,其特征在于,步骤2中的中心子孔径图像alpha图的获取方法具体包括:

步骤21,将视差图disp(x,y)中任意像素i的置信度qi设置为式(3):

式中,pi为视差图disp(x,y)中任意像素i的视差值,D=max(disp(x,y))为视差图中的最大值,d=min(disp(x,y))为视差图中的最小值;

步骤22,设置置信度阈值t1和t2,当置信度qi大于t1时,则该区域属于前景,当置信度qi小于t2时,则该区域属于背景,其他区域为三分图中不确定的区域,则获得式(4)描述的三分图:

步骤23,将所述三分图转化为I1和I2,I1中前景和背景标记处像素为1,其余地方像素值为0,将I1转化为稀疏化对角矩阵即为Ds,I2中前景标记处像素值为1,其余像素值为0,将其转化为列向量即为bs

步骤24,通过式(7)对中心子孔径图像的alpha图进行求解:

α=λ(L+λ)-1bs (7)

式中,λ为标记的权重系数,L为抠图的拉普拉斯矩阵。

4.如权利要求3所述的基于空角一致性光场抠图评价方法,其特征在于,步骤3,通过式(8)提供的光场alpha图传播模型,对中心子孔径图像alpha图进行传播,获取光场alpha图alphau,v(x,y);

式中,为中心视点(u0,v0)下子孔径图像对应的alpha图,disp(x,y)为中心子孔径图像中像点(x,y)对应的视差,Δu、Δv分别为任意视点(u,v)与中心视点(u0,v0)在u、v方向上的距离。

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