[发明专利]一种使用釉下彩工艺的日用陶瓷制备装置

权利要求书

1.一种使用釉下彩工艺的日用陶瓷制备装置，包括加工板(1)和固定槽(12)，其特征在于：加工板(1)的表面设置有固定槽(12)，所述固定槽(12)的内部设置有按压盘(2)，所述按压盘(2)的周围设置有环抱气囊(13)，所述环抱气囊(13)的底端设置有进气管(14)，所述加工板(1)两侧设置有固定盘(11)，所述固定盘(11)的左侧设置有驱动轴(32)，所述驱动轴(32)的一侧设置有固定架(3)，所述固定架(3)的一侧设置有伺服电机(31)，所述固定架(3)的底端设置有控制开关(33)，所述控制开关(33)的一侧设置有回流托盘(53)，所述回流托盘(53)的表面设置有环形托架(52)，所述环形托架(52)的表面设置有活塞套杆(55)，所述活塞套杆(55)的表面设置有升降螺杆(51)，所述升降螺杆(51)的顶端设置有喷涂头(5)，所述回流托盘(53)的后端设置有进釉管(54)，所述回流托盘(53)的一侧设置有充气管(44)，所述充气管(44)的表面设置有泄压阀(45)，所述泄压阀(45)的顶端设置有加气管(4)，所述加气管(4)的顶端设置有充气杆(41)，所述充气杆(41)的顶端设置有驱动齿杆(42)，所述驱动齿杆(42)的后端设置有联动齿轮(43)。

2.根据权利要求1所述的一种使用釉下彩工艺的日用陶瓷制备装置，其特征在于：所述按压盘(2)的两侧设置有固定角盘(21)，所述固定角盘(21)的底端设置有固定塞(22)，所述固定塞(22)的底端设置有限位孔(23)，所述按压盘(2)的底端设置有充气活塞(24)，所述充气活塞(24)的底端设置有复位簧(25)。

3.根据权利要求2所述的一种使用釉下彩工艺的日用陶瓷制备装置，其特征在于：所述充气活塞(24)的两侧设置有限位杆(221)，所述限位杆(221)的底端设置有连接轴(222)，所述连接轴(222)的顶端设置有联动拉杆(223)，所述联动拉杆(223)顶端连接有固定顶杆(224)，所述固定顶杆(224)的底端设置有按压活塞(226)，所述按压活塞(226)的两侧设置有高阻尼弹簧(225)。

4.根据权利要求1所述的一种使用釉下彩工艺的日用陶瓷制备装置，其特征在于：所述喷涂头(5)的顶端设置有触碰式传感器(501)，所述喷涂头(5)的表面设置有雾化喷头(502)。

5.根据权利要求1所述的一种使用釉下彩工艺的日用陶瓷制备装置，其特征在于：所述活塞套杆(55)的顶端设置有电磁泄气阀(551)，所述活塞套杆(55)的内部设置有气密活塞(552)，所述气密活塞(552)的底端设置有伸缩管(553)，所述伸缩管(553)与进釉管(54)连通。

6.根据权利要求3所述的一种使用釉下彩工艺的日用陶瓷制备装置，其特征在于：所述限位孔(23)的两侧设置有扩展孔，所述固定塞(22)的限位杆(221)通过插入限位孔(23)的扩展孔的固定。

7.根据权利要求1所述的一种使用釉下彩工艺的日用陶瓷制备装置，其特征在于：所述升降螺杆(51)采用中空结构内置输送管。

8.根据权利要求5所述的一种使用釉下彩工艺的日用陶瓷制备装置，其特征在于：所述充气管(44)的顶端固定在活塞套杆(55)的底端，所述充气管(44)通过泄压阀(45)控制排气。

9.根据权利要求1所述的一种使用釉下彩工艺的日用陶瓷制备装置，其特征在于：所述联动齿轮(43)与加工板(1)之间通过传动轴连接。

10.根据权利要求1所述的一种使用釉下彩工艺的日用陶瓷制备装置，其特征在于：所述环形托架(52)的底端设置有弹簧杆，所述回流托盘(53)的底端设置有废液排出口。