[发明专利]窗口组件、包括窗口组件的成像系统、制造成像系统的方法及包括成像系统的电子装置

权利要求书

1.一种窗口组件，包括：

透明窗口层；以及

第一编码掩模层，被设置在所述透明窗口层的第一表面上，所述第一编码掩模层具有第一形状，所述第一形状被配置为改变穿过所述窗口组件的光的第一性质。

2.根据权利要求1所述的窗口组件，其中，所述第一编码掩模层包括：包括相位调制超图案的超表面。

3.根据权利要求2所述的窗口组件，其中，所述超表面还包括幅度调制超图案。

4.根据权利要求1所述的窗口组件，还包括：第二编码掩模层，被直接设置在所述透明窗口层的第二表面上，所述第二编码掩模层具有第二形状，所述第二形状被配置为改变穿过所述窗口组件的光的第二性质。

5.根据权利要求4所述的窗口组件，其中，所述第一编码掩模层和所述第二编码掩模层都包括相位调制编码掩模层。

6.根据权利要求5所述的窗口组件，其中，所述第一编码掩模层和所述第二编码掩模层中的每一个包括相应的多个相位调制超图案。

7.根据权利要求4所述的窗口组件，其中，所述第一编码掩模层和所述第二编码掩模层中的一个包括相位调制编码掩模层，并且所述第一编码掩模层和所述第二编码掩模层中的另一个包括幅度调制编码掩模层。

8.根据权利要求7所述的窗口组件，其中，所述相位调制编码掩模层包括多个相位调制超图案，并且所述幅度调制编码掩模层包括多个幅度调制超图案。

9.根据权利要求1所述的窗口组件，还包括：滤光层和抗反射膜，顺序堆叠在所述透明窗口层的第二表面上，所述第二表面与所述第一表面相对。

10.根据权利要求4所述的窗口组件，还包括：滤光层和抗反射膜，顺序堆叠在所述第二编码掩模层上。

11.根据权利要求10所述的窗口组件，其中，所述第一编码掩模层和所述第二编码掩模层都包括相位调制编码掩模层，并且幅度调制编码掩模层还被设置在所述第二编码掩模层上。

12.根据权利要求1所述的窗口组件，还包括：所述透明窗口层的第一表面与所述第一编码掩模层之间的光分离层。

13.根据权利要求4所述的窗口组件，还包括：所述透明窗口层的第一表面与所述第一编码掩模层之间的光分离层。

14.根据权利要求1所述的窗口组件，其中，所述透明窗口层对于长波红外LWIR线是透明的，并且所述第一编码掩模层包括改变所述LWIR线的相位的多个超图案，并且

其中，所述多个超图案被配置为恢复穿过所述窗口组件的光中所包括的图像。

15.根据权利要求4所述的窗口组件，其中，所述透明窗口层对于LWIR线是透明的，并且所述第一编码掩模层包括改变所述LWIR线的相位的多个超图案，并且

其中，所述多个超图案被配置为恢复穿过所述窗口组件的光中所包括的图像。

16.根据权利要求14所述的窗口组件，其中，所述透明窗口层包括硅层，并且所述多个超图案包括非晶硅图案。

17.一种成像系统，包括：

不包括透镜的根据权利要求1所述的窗口组件；以及

图像传感器，被配置为：接收穿过所述窗口组件的光并且生成电信号以用于生成图像。

18.根据权利要求17所述的成像系统，其中，所述图像传感器包括互补金属氧化物半导体CMOS图像传感器。