[发明专利]窗口组件、包括窗口组件的成像系统、制造成像系统的方法及包括成像系统的电子装置

说明书

一种窗口组件包括：透明窗口层；以及被设置在所述窗口层的第一表面上的第一编码掩模层，所述第一编码掩模层具有被配置为改变穿过所述窗口组件的光的第一性质的第一形状。所述第一编码掩模层可以包括：包括相位调制超图案的超表面。所述超表面还可以包括幅度调制超图案。具有被配置为改变穿过所述窗口组件的光的第二性质的第二形状的第二编码掩模层还可以被设置在所述窗口层的第二表面上。

相关申请的交叉引用

本申请基于2021年10月8日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2021-0134457并且要求其优先权，其公开内容通过引用整体并入本文。

技术领域

本公开涉及成像系统，并且具体涉及窗口组件、包括该窗口组件的成像系统、制造该成像系统的方法及包括该成像系统的电子装置。

背景技术

成像系统一般包括：包括驱动电路的图像传感器芯片、覆盖该图像传感器芯片的封装、该封装中的光入射窗、该光入射窗上方的波长过滤器、以及该封装上方的透镜系统。窗和透镜的材料可以对光具有适当的透射率和折射率。

最近，已经引入了无透镜成像系统。无透镜成像系统不使用有关技术的成像系统中使用的透镜。在现有成像系统的情况下，因为设置了透镜，所以需要光行进所需的空间——即至少与透镜的焦距相对应的空间。因为无透镜成像系统不使用传统透镜，所以其不需要光行进的空间。因此，无透镜成像系统与有关技术的成像系统相比可以具有减小的体积。因此，通过使用无透镜成像系统可以实现紧凑成像系统。

发明内容

提供了能够恢复希望的图像的窗口组件。

提供了通过包括所述窗口组件而具有紧凑的尺寸的成像系统。

提供了制造所述成像系统的方法。

提供了包括所述成像系统的电子装置。

附加的方面将部分地在以下描述中阐述，且将部分地通过该描述而变得清楚，或者可以通过对本公开的示例实施例的实践来获知。

根据本公开的一个方面，一种窗口组件包括：透明窗口层；以及第一编码掩模层，被设置在所述透明窗口层的第一表面上，所述第一编码掩模层具有第一形状，所述第一形状被配置为改变穿过所述窗口组件的光的第一性质。

所述第一编码掩模层可以包括：包括相位调制超图案的超表面。

所述超表面还可以包括幅度调制超图案。

所述窗口组件还可以包括：被直接设置在所述透明窗口层的第二表面上的第二编码掩模层，所述第二编码掩模层具有被配置为改变穿过所述窗口组件的光的第二性质的第二形状。

所述第一编码掩模层和所述第二编码掩模层都可以包括相位调制编码掩模层。

所述第一编码掩模层和所述第二编码掩模层中的每一个可以包括相应的多个相位调制超图案。

所述第一编码掩模层和所述第二编码掩模层中的一个可以包括相位调制编码掩模层，并且所述第一编码掩模层和所述第二编码掩模层中的另一个可以包括幅度调制编码掩模层。

所述相位调制编码掩模层可以包括多个相位调制超图案，并且所述幅度调制编码掩模层包括多个幅度调制超图案。

所述窗口组件还可以包括：顺序堆叠在所述透明窗口层的第二表面上的滤光层和抗反射膜，所述第二表面与所述第一表面相对。

所述窗口组件还可以包括：顺序堆叠在所述第二编码掩模层上的滤光层和抗反射膜。

所述第一编码掩模层和所述第二编码掩模层都可以都包括相位调制编码掩模层，并且幅度调制编码掩模层还可以被设置在所述第二编码掩模层上。