[发明专利]一种改善基板变形的支撑件

说明书

本发明属于精密制造设备技术领域，具体涉及一种改善基板变形的支撑件，用于在精密刻蚀工艺时支撑所述基板，所述支撑件为环形支撑件，用于自所述基板的外围边缘部分支撑所述基板，与所述基板的接触部分设置有吸附部；所述吸附部用于消除所述基板放置在所述支撑件后产生的边缘翘曲。本发明对薄基板在重力作用造成的变形进行改善，通过在基板边缘施加吸附力或者压力来补偿基板有效区域由于重力造成的影响，防止在基板的边缘区域产生变形，保证其结构分辨率和均匀性，提高其加工效率。

技术领域

本发明属于精密制造设备技术领域，具体涉及一种改善基板变形的支撑件。

背景技术

在精密刻蚀过程中，晶圆或基板通常放在平坦的支撑台，且通过真空吸附将基板均匀的吸附在支撑台上。若基板的有源区域已设置有传感结构或还未经处理，则在真空吸附过程中，基板可能会被有源区域中的杂质颗粒损伤或污染。

为了克服上述问题并避免基板的有源区域受到损伤或污染，当前已经提出尽在基板的无源区域(外围边缘)对其进行支撑。在这种情况下，由于基板仅在边缘较窄的区域有支撑，其有源区域此时都处于悬空状态，基板可能会在重力作用下根据其厚度、大小和刚度的不同向下弯曲不同的程度。在刻蚀时，基板的变形会使光掩模与基板之前在不同区域的距离不同，可能会导致过低的结构分辨性和非均匀性，导致良率降低。

现有基板支撑方法多采用边缘区域支撑的方法，可避免基板在真空吸附时的损伤和污染，但是边缘支撑的方法会使基板中心在重力作用下变形，使光掩模与基板之间的距离变化，导致过低的结构分辨率和非均匀性，影响良率和效率。特别是对更薄的基板来说，这种变形更大。

发明内容

有鉴于此，本发明提出一种改善基板变形的支撑件，对薄基板在重力作用造成的变形进行改善，通过在基板边缘施加吸附力或者压力来补偿基板有效区域由于重力造成的影响，防止在基板的边缘区域产生变形，保证其结构分辨率和均匀性，提高加工效率。

为了达到上述技术目的，本发明所采用的具体技术方案为：

一种改善基板变形的支撑件，用于在精密刻蚀工艺时支撑所述基板，所述支撑件为环形支撑件，用于自所述基板的外围边缘部分支撑所述基板，与所述基板的接触部分设置有吸附部；所述吸附部用于消除所述基板放置在所述支撑件后产生的边缘翘曲。

进一步的，所述吸附部为负压吸附槽。

进一步的，自所述基板的重心点的扩散方向，所述负压吸附槽对所述基板的吸附力规律增加。

进一步的，所述负压吸附槽为多组；所述吸附部基于负压装置和导气管在所述负压吸附槽处产生负压；所述负压装置用于产生气体负压，基于各所述导气管连接各所述负压吸附槽。

进一步的，自所述基板的重心点的扩散方向，所述负压吸附槽对所述基板的吸附力递增。

进一步的，所述负压装置基于多个所述导气管分别连接各所述负压吸附槽。

进一步的，各所述负压吸附槽呈环形分布在所述支撑件上。

进一步的，所述负压吸附槽的宽度为0.5-1.5mm。

进一步的，各所述负压吸附槽的吸附力依据所述基板的面型可调设置。

进一步的，所述支撑件还包括多个紧固螺孔，各所述紧固螺孔用于将所述支撑件固定至光刻设备中。

采用上述技术方案，本发明能够带来以下有益效果：

1)本发明不引入额外的支撑，可避免基板不必要的损伤和污染；

2)本发明工艺调整过程比较简单，可有效提高加工效率；

3)本发明能够通过改变吸附的压强来补偿基板有效区域的变形，可有效提高加工良率。

附图说明