[发明专利]一种双面镜镀膜玻璃制作方法在审
| 申请号： | 202210448684.6 | 申请日： | 2022-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN114853359A | 公开（公告）日： | 2022-08-05 |
| 发明（设计）人： | 林伯淳 | 申请（专利权）人： | 台玻天津玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 | 代理人： | 范建良 |
| 地址： | 301609 天津*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 双面 镀膜 玻璃 制作方法 | ||
1.一种双面镜镀膜玻璃制作方法，其特征在于：双面镜镀膜玻璃包括玻璃基板，还包括依次叠加设置在所述玻璃基板表面的第一电介质层、第二电介质层、金属吸收层、第三电介质层和第四电介质层；具体制作方法包括如下步骤：
S1，选择4-6mm的透明玻璃基板，按照预设尺寸对所述玻璃基板进行预制加工成型，并对玻璃基板进行清洗；
S2，选择磁控溅射镀膜设备，在玻璃基板上溅射第一电介质层，所述第一电介质层的厚度为20nm～80nm；第一电介质层为高折射率的电介质膜层，折射率范围在2.0-2.7，所述第一电介质层为Si3N4、AZO、TiO2、TiN、Nb2O5、ZrO2中的一种或几种；
S3，选择磁控溅射镀膜设备，在第一电介质层上溅射第二电介质层，所述第二电介质层的厚度为50nm～100nm；所述第二电介质层为低折射率的电介质膜层，折射率范围在1.35-1.6，第二电介质层为SiO2、SiNxOy、Al2O3、MgF2中的一种或几种；
S4，选择磁控溅射镀膜设备，在第二电介质层上溅射金属吸收层，所述金属吸收层为Cr、CrNx、NiCr、NiCrOx或SST中的一种或几种；所述金属吸收层的厚度为40nm～70nm；
S5，选择磁控溅射镀膜设备，在金属吸收层上溅射第三电介质层，所述第三电介质层为低折射率的电介质膜层，折射率范围在1.35-1.6，第三电介质层为SiO2、SiNxOy、Al2O3、MgF2中的一种或几种；所述第三电介质层的厚度为50nm～100nm；
S5，选择磁控溅射镀膜设备，在第三电介质层上溅射第四电介质层，所述第四电介质层为高折射率的电介质膜层，折射率范围在2.0-2.7，第四电介质层为Si3N4、AZO、TiO2、TiN、Nb2O5、ZrO2中的一种或几种；所述第四电介质层的厚度为50nm～100nm；第四电介质层溅射完成后得到双面镜镀膜玻璃。
2.如权利要求1所述的一种双面镜镀膜玻璃制作方法，其特征在于：所述玻璃基板为5mm的制镜级浮法原片。
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