[发明专利]编码器用反射型光学标尺和反射型光学式编码器在审
申请号: | 202210449227.9 | 申请日: | 2021-03-30 |
公开(公告)号: | CN114674233A | 公开(公告)日: | 2022-06-28 |
发明(设计)人: | 中泽伸介;户田刚史;小田直哉 | 申请(专利权)人: | 大日本印刷株式会社 |
主分类号: | G01B11/02 | 分类号: | G01B11/02;G01D5/347 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 王博;庞东成 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 编码 器用 反射 光学 标尺 编码器 | ||
1.一种编码器用反射型光学标尺,其为在基材上交替地配置有高反射区域和低反射区域的编码器用反射型光学标尺,其中,
所述低反射区域包含低反射部,所述低反射部具有:配置于所述基材的一个表面的金属铬膜;和以任意顺序配置于所述金属铬膜的与所述基材相反一侧的表面的氧化铬膜和氮化铬膜,
在所述高反射区域,从所述编码器用反射型光学标尺的与所述基材相反一侧入射的光的反射率高于所述低反射区域。
2.如权利要求1所述的编码器用反射型光学标尺,其中,所述低反射区域的最表面为所述氧化铬膜或所述氮化铬膜。
3.如权利要求1或权利要求2所述的编码器用反射型光学标尺,其中,所述低反射区域具有:所述金属铬膜;配置于所述金属铬膜的与所述基材相反一侧的表面的所述氮化铬膜;和配置于所述氮化铬膜的与所述金属铬膜相反一侧的表面的所述氧化铬膜。
4.如权利要求1~权利要求3中任一项所述的编码器用反射型光学标尺,其中,所述高反射区域具有形成于所述基材上的所述金属铬膜。
5.如权利要求1~权利要求3中任一项所述的编码器用反射型光学标尺,其中,所述高反射区域具有形成于所述基材上的金属银膜或以银为主要成分的银合金膜。
6.如权利要求1~权利要求5中任一项所述的编码器用反射型光学标尺,其中,所述高反射区域的波长区域550nm~950nm的范围内的任意波长下的反射率为60%以上,下式所示的S/N比的值为100以上,
S/N比=高反射区域的反射率/低反射区域的反射率。
7.一种反射型光学式编码器,其特征在于,具备:
权利要求1~权利要求6中任一项所述的编码器用反射型光学标尺;
光源,向所述编码器用反射型光学标尺的配置有所述低反射部的一侧的表面照射光;和
光检测器,检测所述光源的从所述编码器用反射型光学标尺的反射光。
8.一种编码器用反射型光学标尺,其为在透明基材上交替地配置有高反射区域和低反射区域的编码器用反射型光学标尺,其中,
所述低反射区域包含光反射部,所述光反射部具有:以任意顺序配置于所述透明基材的一个表面的氧化铬膜和氮化铬膜;和配置于所述氧化铬膜或所述氮化铬膜的与所述基材相反一侧的表面的金属铬膜,
在所述高反射区域,从所述编码器用反射型光学标尺的所述透明基材侧入射的光的反射率高于所述低反射区域。
9.如权利要求8所述的反射型光学式编码器用反射型光学标尺,其中,所述低反射区域具有:配置于所述透明基材的一个表面的所述氧化铬膜;配置于所述氧化铬膜的与所述透明基板相反一侧的表面的所述氮化铬膜;和配置于所述氮化铬膜的与所述氧化铬膜相反一侧的表面的所述金属铬膜。
10.如权利要求8或权利要求9所述的编码器用反射型光学标尺,其中,所述高反射区域具有配置于所述透明基材的配置有所述光反射部的一侧的表面的所述金属铬膜。
11.如权利要求8或权利要求9所述的编码器用反射型光学标尺,其中,所述高反射区域具有配置于所述透明基材的配置有所述光反射部的一侧的表面的金属银膜或以银为主要成分的银合金膜。
12.如权利要求8~权利要求11中任一项所述的编码器用反射型光学标尺,其中,所述高反射区域的波长区域550nm~950nm的范围内的任意波长下的反射率为60%以上,下式所示的S/N比的值为15以上,
S/N比=高反射区域的反射率/低反射区域的反射率。
13.一种反射型光学式编码器,其特征在于,具备:
权利要求8~权利要求12中任一项所述的编码器用反射型光学标尺;
光源,向所述编码器用反射型光学标尺的与配置有所述光反射部侧相反一侧的表面照射光;和
光检测器,检测所述光源的从所述编码器用反射型光学标尺的反射光。
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