[发明专利]彩膜基板、显示面板、显示装置及彩膜基板的制造方法

权利要求书

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：

衬底基板；

彩膜层，设置在所述衬底基板一侧；

缓冲层，设置在所述彩膜层的远离所述衬底基板的一侧；所述缓冲层包括高折射率区域和低折射率区域；

黑矩阵，设置在所述缓冲层的远离所述衬底基板的一侧；所述黑矩阵的开口区位于所述高折射率区域的表面，所述黑矩阵的非开口区位于所述低折射率区域的表面。

2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜层包括多个色阻单元；所述低折射率区域的纵截面的宽度由靠近所述黑矩阵的一侧向靠近所述衬底基板的一侧减小；所述纵截面为任一相邻的两个色阻单元之间，且垂直于所述衬底基板的截面。

3.如权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述纵截面为梯形。

4.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述高折射率区域和所述低折射率区域的交界面与所述黑矩阵之间的夹角为65°～90°。

5.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述高折射率区域和所述低折射率区域的交界面与所述黑矩阵的表面之间的夹角满足：

使入射光线的入射角度大于预设的临界角；所述入射光线为从远离所述衬底基板的方向入射所述交界面的光线，所述临界角为光线由所述高折射率区域入射所述低折射率区域发生全反射的角度。

6.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述高折射率区域的折射率范围为：1.7～2；所述低折射率区域的折射率范围为：1.3～1.5。

7.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述缓冲层的厚度范围为：0.5um～5um。

8.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述高折射率区域的材料包括含硫环氧树脂、含多个苯环的环氧树脂、含硅的树脂材料、三氧化钼以及二氧化钛中的一种或多种；所述低折射率区域的材料包括氮化硅和/或二氧化硅。

9.一种显示面板，其特征在于，包括：TFT阵列基板和权利要求1-8中任一所述的彩膜基板，所述彩膜基板设置所述黑矩阵的一面与所述TFT阵列基板的出光侧贴合。

10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求9所述的显示面板。

11.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，包括：

提供衬底基板；

在所述衬底基板上形成彩膜层；

在所述彩膜层上形成缓冲层，所述缓冲层包括高折射率区域和低折射率区域；

在所述缓冲层上形成黑矩阵，所述黑矩阵的开口区位于所述高折射率区域，所述黑矩阵的非开口区位于所述低折射率区域。