[发明专利]彩膜基板、显示面板、显示装置及彩膜基板的制造方法

说明书

本发明公开了一种彩膜基板、显示面板、显示装置及彩膜基板的制造方法，其中，所述的彩膜基板，包括：衬底基板；彩膜层，设置在衬底基板一侧；缓冲层，设置在彩膜层的远离衬底基板的一侧；缓冲层包括高折射率区域和低折射率区域；黑矩阵，设置在缓冲层的远离衬底基板的一侧；黑矩阵的开口区位于高折射率区域的表面，黑矩阵的非开口区位于低折射率区域的表面。本发明能够有效提高显示面板的出光率。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及彩膜基板、显示面板、显示装置及彩膜基板的制造方法。

背景技术

目前广泛采用的显示面板技术包括OLED(Organic Light Emission Diode，有机电致发光器件)显示面板和LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示器)显示面板。显示面板的出光率是衡量显示面板性能的重要指标。例如，在OLED显示面板中为了提高出光率，采用顶发射器件工艺制造；顶发射器件因光线从阴极发射，可以提高开口率，并且顶发射的OLED器件的阳极具有高反射特性，阴极为半透明的金属，从而可以从一定程度上提高显示面板的出光率，但是效果依旧有限。

由此可见，如何进一步的提高显示面板的出光率成为了目前亟待解决的问题。

发明内容

鉴于上述问题，提出了本发明以便提供一种彩膜基板、显示面板、显示装置及彩膜基板的制造方法，可有效提高显示面板的出光率。

第一方面，提供彩膜基板，包括：衬底基板；彩膜层，设置在所述衬底基板一侧；缓冲层，设置在所述彩膜层的远离所述衬底基板的一侧；所述缓冲层包括高折射率区域和低折射率区域；黑矩阵，设置在所述缓冲层的远离所述衬底基板的一侧；所述黑矩阵的开口区位于所述高折射率区域的表面，所述黑矩阵的非开口区位于所述低折射率区域的表面。

可选的，所述彩膜层包括多个色阻单元；所述低折射率区域的纵截面的宽度由靠近所述黑矩阵的一侧向靠近所述衬底基板的一侧减小；所述纵截面为任一相邻的两个色阻单元之间，且垂直于所述衬底基板的截面。

可选的，所述纵截面为梯形。

可选的，所述高折射率区域和所述低折射率区域的交界面与所述黑矩阵之间的夹角为65°～90°。

可选的，所述高折射率区域和所述低折射率区域的交界面与所述黑矩阵的表面之间的夹角满足：

使入射光线的入射角度大于预设的临界角；所述入射光线为从远离所述衬底基板的方向入射所述交界面的光线，所述临界角为光线由所述高折射率区域入射所述低折射率区域发生全反射的角度。

可选的，所述高折射率区域的折射率范围为：1.7～2；所述低折射率区域的折射率范围为：1.3～1.5。

可选的，所述缓冲层的厚度范围为：0.5um～5um。

可选的，所述高折射率区域的材料包括含硫环氧树脂、含多个苯环的环氧树脂、含硅的树脂材料、三氧化钼以及二氧化钛中的一种或多种；所述低折射率区域的材料包括氮化硅和/或二氧化硅。

第二方面，基于同一发明构思，还提供一种显示面板，包括：TFT阵列基板和前述第一方面中所述的彩膜基板，所述彩膜基板设置所述黑矩阵的一面与所述TFT阵列基板的出光侧贴合。

第三方面，基于同一发明构思，还提供一种显示装置，包括前述第一方面中所述的显示面板。

第四方面，基于同一发明构思，还提供一种彩膜基板的制造方法，包括：

提供衬底基板；

在所述衬底基板上形成彩膜层；

在所述彩膜层上形成缓冲层，所述缓冲层包括高折射率区域和低折射率区域；