[发明专利]一种基于碱去活性机理的聚酰亚胺正性光刻胶

权利要求书

1.一种基于碱去活性机理的聚酰亚胺正性光刻胶，其特征在于，其组分包括聚酰胺酸树脂、碱性催化剂、光产酸剂、溶剂，所述的正性光刻胶组成如下(按重量百分比计，各组分相加为100％)：

聚酰胺酸树脂10％-50％；

碱性催化剂0.5％-10％；

光产酸剂0.5％-10％；

溶剂50％-90％。

2.根据权利要求1所述的一种基于碱去活性机理的聚酰亚胺正性光刻胶，其特征在于，所述的主体树脂为聚酰胺酸树脂结构式如下，所述树脂的分子量为10000-100000。

3.根据权利要求1所述的一种基于碱去活性机理的聚酰亚胺正性光刻胶，其特征在于，所述正性光刻胶还含有碱性催化剂，包括四乙基氯化铵、四丁基氯化铵、四乙基四氟硼酸铵、三乙醇胺、四甲基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、N,N-二甲基环己胺、叠氮辛烷、三辛胺等，本发明光刻胶包含以上碱性催化剂中的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的一种基于碱去活性机理的聚酰亚胺正性光刻胶，其特征在于，所述正性光刻胶还含有光产酸剂，该光产酸剂是指可以在365nm处感光且产生使碱性催化剂失活的酸性化合物，包括非离子型与离子型，如甲基双氯代甲基三嗪、萘酰亚胺三氟甲磺酸酯、对甲氧基苯基乙腈对甲苯磺酸酯、六氟锑酸硫鎓盐、对甲苯磺酸碘鎓盐等。

5.根据权利要求1所述的一种基于碱去活性机理的聚酰亚胺正性光刻胶，其特征在于，所述所述正性光刻胶的溶剂采用包括乙二醇甲醚、丙二醇甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯、醋酸乙酯、乳酸乙酯、γ-丁内酯、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺或前述溶剂中的至少一种的组合。