[发明专利]一种高附着力光电薄膜及其制备方法和应用

说明书

本发明提供了一种高附着力光电薄膜及其制备方法和应用，所述高附着力光电薄膜包括依次层叠设置的衬底、过渡层以及金属层；所述过渡层包括氧化钼层；所述金属层包括两层钼层以及所述两层钼层中间夹设的铝层；所述制备方法包括：对预处理后的衬底表面进行粗糙化处理；采用磁控溅射法在经粗糙化处理后的衬底表面沉积过渡层，得到半成品；采用磁控溅射法在得到的半成品的过渡层上沉积金属层，得到光电薄膜；所述光电薄膜通过将氧化钼层作为过渡层，极大地提高了衬底与金属层之间的附着性；所述制备方法工艺流程简单，无需使用危险化学溶液，安全性高，所得产品良率高，具有较好的工业化应用前景。

技术领域

本发明属于光电薄膜技术领域，涉及一种光电薄膜及其制备方法和应用，具体涉及一种高附着力光电薄膜及其制备方法和应用。

背景技术

以铝、铜、银和金为代表的金属电极通常具有高电导率和高反射率等共同光电特性，被广泛地应用于太阳能电池、平面显示、电子电路、光学反射镜及其它光电器件与光电薄膜和抗电磁波等领域。但是上述金属电极与衬底基片直接接触难以形成结合力良好化学键，通常需增加界面粗糙度以增强金属薄膜与衬底之间范德华力和机械咬合力，达到提高金属薄膜附着力目的。而提高表面粗糙度的方式主要为化学法，即采用NaOH或HF进行腐蚀处理。而HF属于强腐蚀的酸，对人体和环境危害极大，需要谨慎处理。因此提供一种安全高效的可提高金属薄膜附着力的方法具有重要意义。

CN106098806A公开了一种增强附着力的光电薄膜，该薄膜结构包括衬底、界面修饰层和金属薄膜层，所述界面修饰层为一层、两层或数层，各层界面修饰层材料相同或不同；所述衬底为玻璃、石英、含铅玻璃、陶瓷、氧化锆、氧化铝、硅片、云母和塑料基片；所述界面修饰层为氧化硅，氧化铝，氧化锆、氧化钛或其两种或几种复合；所述金属薄膜层为铝、银、铜、金及各类金属合金。该制备方法得到的光电薄膜薄膜致密性及电性较差，且制备时间长，效率较低。

综上所述，如何提供一种工艺流程简单，耗时短，耗能少，成本低，且能提高金属薄膜附着性方法膜，成为当前亟待解决的问题。

发明内容

针对现有技术存在的问题，本发明的目的在于提供一种高附着力光电薄膜及其制备方法和应用，所述光电薄膜通过将氧化钼层作为过渡层，极大地提高了衬底与金属层之间的附着性；所述制备方法工艺流程简单，无需使用危险化学溶液，安全高效，所得产品良率高，具有较好的工业化应用前景。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

第一方面，本发明提供了一种高附着力光电薄膜，所述高附着力光电薄膜包括依次层叠设置的衬底、过渡层以及金属层；

所述过渡层包括氧化钼层；

所述金属层包括两层钼层以及所述两层钼层中间夹设的铝层。

本发明中，将氧化钼作为衬底与金属层之间的过渡层，首先保证了过渡层与衬底的结合力；然后将金属层设计为两层钼层中间夹设的铝层的结构，使其中的金属钼层与过渡层(氧化钼)相接触，有利于小体积的钼原子嵌入，从而提高钼原子与氧化钼层的结合力；此外，该金属层结构的设计(三明治结构)，也有利于保护铝层不被侵蚀；所述光电薄膜通过过渡层与金属层的设计，可明显提升衬底与金属层之间的附着力，保证产品的性能和良率，有利于工业化应用。

以下作为本发明优选的技术方案，但不作为本发明提供的技术方案的限制，通过以下技术方案，可以更好地达到和实现本发明的技术目的和有益效果。

作为本发明优选的技术方案，所述衬底包括ITO膜或SiO₂膜。

作为本发明优选的技术方案，所述过渡层的厚度为2-5nm，例如2nm、3nm、 4nm或5nm等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。