[发明专利]一种高铟含量的ITO靶材的制备方法在审
| 申请号： | 202210503537.4 | 申请日： | 2022-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN114873992A | 公开（公告）日： | 2022-08-09 |
| 发明（设计）人： | 张兵;王志强;曾墩风;马建保;陶成;徐军伟 | 申请（专利权）人： | 芜湖映日科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/01 | 分类号： | C04B35/01;C04B35/622;C04B35/638;C23C14/08;C23C14/34;C23C14/35 |
| 代理公司： | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人： | 杨静 |
| 地址： | 241000 安徽省芜湖市自由贸易*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 含量 ito 制备 方法 | ||
1.一种高铟含量的ITO靶材的制备方法，其特征在于，所述的ITO靶材中氧化铟粉末、氧化锡粉末质量比大于等于97：3，所述氧化铟粉体的比表面积为11-12m2/g，经过混合、球磨、喷雾造粒得到纳米级ITO粉体，使用冷等静压制成素坯，加工好的素坯放入烧结炉中进行脱脂和常压烧结，得到的ITO靶材相对密度大于99%，晶粒尺寸5.32-6.84μm；抗弯强度为149-156MPa。
2.根据权利要求所述高铟含量的ITO靶材的制备方法，其特征在于，所述烧结的最高温度为1600-1650℃。
3.根据权利要求1所述高铟含量的ITO靶材的制备方法，其特征在于，所述氧化铟粉末、氧化锡粉末依次采用粗磨、精磨和纳米级砂磨进行处理。
4.根据权利要求3所述高铟含量的ITO靶材的制备方法，其特征在于，所述粗磨工艺为，粗磨锆珠直径1-10mm，研磨时间3-20小时，搅拌机速度50-120rpm。
5.根据权利要求3所述高铟含量的ITO靶材的制备方法，其特征在于，所述精磨使用砂磨机，自循环精磨，精磨锆珠直径0.8-1.0mm，主机转速800-1200rpm，供料泵流量800-1000L/min。
6.根据权利要求3所述高铟含量的ITO靶材的制备方法，其特征在于，所纳米级砂磨的砂磨机锆珠直径0.05-0.1mm，主机转速1600rpm，供料泵流量500-600L/min。
7.根据权利要求1所述高铟含量的ITO靶材的制备方法，其特征在于，所述烧结工艺如下：（1）以5℃/min的升温速率升温至600℃，保温2h，通入氧气流量为8L/min；（2）以1.5℃/min的升温速率升温至1250℃，保温8h，通入氧气流量为12L/min；（3）以0.3℃/min的升温速率升温至1650℃，保温15h，通入氧气流量为16L/min；（4）以5℃/min的降温速率降升温至1250℃，通入氧气流量为16L/min；（5）随后停止通氧，自然冷却至室温。
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