[发明专利]含氟的POSS杂化体及其制备方法、光固化组合物和有机封装薄膜

权利要求书

1.一种含氟的POSS杂化体，其特征在于，所述含氟的POSS杂化体的通式为(RSiO_1.5)_n，所述R表示-R₁R₂CF₃，所述R₁和所述R₂各自独立地表示C1～C20的直链或支链亚烷基，C3～C20的亚环烷基、C4～C20的环烷基亚烷基、C4～C20的烷基亚环烷基、C6～C20的亚芳基，且其中的碳原子可选择性的被O或S所取代，氢原子可选择性的被F所取代；所述n为6～20之间的偶数。

2.根据权利要求1所述的含氟的POSS杂化体，其特征在于，所述R₁和所述R₂各自独立地表示C1～C10的直链或支链亚烷基，C3～C10的亚环烷基、C4～C10的环烷基亚烷基、C4～C10的烷基亚环烷基、C6～C10的亚芳基，且其中的碳原子可选择性的被O或S所取代，氢原子可选择性的被F所取代；所述n为6～12之间的偶数。

3.根据权利要求1所述的含氟的POSS杂化体，其特征在于，所述R选自如下基团中的至少一种：

4.根据权利要求1至3中任一项所述的含氟的POSS杂化体，其特征在于，所述含氟的POSS杂化体选自如下化合物中的任意一种：

5.一种含氟的POSS杂化体的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：将含氟烯烃与POSS单体混合进行硅氢加成反应，得到所述含氟的POSS杂化体；

其中，所述含氟烯烃的通式为R₃＝R₂CF₃，R₃代表R₁H，所述R₁和所述R₂具有与权利要求1至4中任一项所述的相同含义；所述POSS单体为(HSiO_1.5)_n，所述n具有与权利要求1至4中任一项所述的相同含义。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述含氟烯烃选自如下烯烃中的任意一种：

7.根据权利要求5或6任一项所述的制备方法，其特征在于，所述含氟烯烃与所述POSS单体在溶剂中混合，在催化剂的作用下进行所述硅氢加成反应；

优选地，所述溶剂选自异丙醇、四氢呋喃、环己酮、乙二醇二甲醚和邻苯二甲酸二甲酯中的至少一种；

优选地，所述催化剂选自六水合氯铂酸、铂(0)-1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷合铂、氯化钯、四(三苯基膦)钯、威尔金森催化剂、四羰化镍、六羰基铬和karstedt催化剂中的至少一种；

优选地，所述硅氢加成反应在常压下进行，所述反应时间为4-8h；

优选地，所述硅氢加成反应在保护气体条件下进行，所述保护气体包括惰性气体和氮气中的至少一种。

8.一种光固化组合物，其特征在于，按质量百分比计，所述光固化组合物包括含氟的POSS杂化体10～30％、环氧树脂40～70％、环氧稀释剂15～35％和引发剂1～5％，其中，所述含氟的POSS杂化体为权利要求1至4中任一项所述的含氟的POSS杂化体或权利要求5至7中任一项所述的制备方法得到的含氟的POSS杂化体。