[发明专利]溶剂膜处理的烘箱单元与烘箱装置

权利要求书

1.一种溶剂膜处理的烘箱单元，其特征在于，所述溶剂膜处理的烘箱单元包括：

第一静压箱，所述第一静压箱用于设置于薄膜输送轨道的上方，所述第一静压箱的底部设有至少一个第一出风槽口，所述第一出风槽口的出风方向朝向所述烘箱单元的薄膜入口倾斜设置；

第一分隔体，所述第一分隔体用于设置于所述薄膜输送轨道的上方，所述第一分隔体对应于所述烘箱单元的薄膜入口设置；

第二静压箱，所述第二静压箱用于设置于所述薄膜输送轨道的下方，所述第二静压箱的顶部设有至少一个第二出风槽口，所述第二出风槽口的出风方向朝向所述烘箱单元的薄膜入口倾斜设置；以及

第二分隔体，所述第二分隔体用于设置于所述薄膜输送轨道的下方，所述第二分隔体对应于所述烘箱单元的薄膜入口设置。

2.根据权利要求1所述的溶剂膜处理的烘箱单元，其特征在于，所述第一分隔体的内部形成有第一排气通道，所述第一分隔体面向于所述第一静压箱的侧面形成有与所述第一排气通道相连通的第一吸风孔；所述第二分隔体的内部形成有第二排气通道，所述第二分隔体面向于所述第二静压箱的侧面形成有与所述第二排气通道相连通的第二吸风孔。

3.根据权利要求2所述的溶剂膜处理的烘箱单元，其特征在于，所述第一分隔体设有沿着所述薄膜输送轨道的输送方向上依次设置的第一侧面与第二侧面，所述第一侧面为完全封闭面，所述第二侧面为面向于所述第一静压箱的侧面；所述第二分隔体设有沿着所述薄膜输送轨道的输送方向上依次设置的第三侧面与第四侧面，所述第三侧面为完全封闭面，所述第四侧面为面向于所述第二静压箱的侧面。

4.根据权利要求1所述的溶剂膜处理的烘箱单元，其特征在于，所述第一静压箱的数量为至少两个，至少两个所述第一静压箱沿着溶剂膜的输送方向依次设置；每个所述第一静压箱的第一出风槽口为至少两个，至少两个所述第一出风槽口沿着所述溶剂膜的输送方向依次间隔地设置于所述第一静压箱的底部；

所述第二静压箱的数量为至少两个，至少两个所述第二静压箱沿着溶剂膜的输送方向依次设置；每个所述第二静压箱的第二出风槽口为至少两个，至少两个所述第二出风槽口沿着所述溶剂膜的输送方向依次间隔地设置于所述第二静压箱的顶部。

5.根据权利要求4所述的溶剂膜处理的烘箱单元，其特征在于，所述溶剂膜处理的烘箱单元包括第一分配器与第一进风管，所述第一分配器分别与至少两个所述第一静压箱相连通，所述第一分配器还与所述第一进风管相连通；所述溶剂膜处理的烘箱单元包括第二分配器与第二进风管，所述第二分配器分别与至少两个所述第二静压箱相连通，所述第二分配器还与所述第二进风管相连通。

6.根据权利要求4所述的溶剂膜处理的烘箱单元，其特征在于，所述第一静压箱的底部设有至少两个第一出风部，至少两个所述第一出风部与至少两个所述第一出风槽口一一对应连通设置；相邻两个所述第一出风部间隔设置并配合形成第一缓冲空间；

所述第二静压箱的顶部设有至少两个第二出风部，至少两个所述第二出风部与至少两个所述第二出风槽口一一对应连通设置；相邻两个所述第二出风部间隔设置并配合形成第二缓冲空间。

7.根据权利要求1所述的溶剂膜处理的烘箱单元，其特征在于，所述溶剂膜处理的烘箱单元还包括设排风管，所述排风管位于所述第一静压箱以及所述第二静压箱的侧部；所述排风管的管壁上设有多个第三吸风孔，所述排风管的排风出口与排风机相连；所述排风管上设有第一流量调节阀；所述排风管为至少两个，至少两个所述排风管沿着所述薄膜输送方向依次间隔设置。

8.根据权利要求1所述的溶剂膜处理的烘箱单元，其特征在于，所述第一静压箱配置有第一风量调节阀，所述第一风量调节阀将所述第一静压箱分隔成第一静压腔室与第一出风腔室；所述第二静压箱配置有第二风量调节阀，所述第二风量调节阀将所述第二静压箱分隔成第二静压腔室与第二出风腔室；所述第一风量调节阀与所述第二风量调节阀均包括叠置设置的两个调节板，所述调节板上设有多个通风孔，所述调节板上中部部位的孔隙率小于所述调节板侧部部位的孔隙率，至少一个所述调节板能够被移动调节位置。