[发明专利]接合方法和接合装置在审
申请号: | 202210518227.X | 申请日: | 2022-05-12 |
公开(公告)号: | CN115376883A | 公开(公告)日: | 2022-11-22 |
发明(设计)人: | 田代佳;饭野克宏 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;H01L21/67 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 接合 方法 装置 | ||
本发明涉及接合方法和接合装置。提供一种在将包含玻璃基板和树脂层的第1基板与第2基板接合之前降低第1基板的翘曲并提高第1基板与第2基板之间的接合精度的技术。接合方法具有下述步骤(A)~(C)。(A)利用第1保持部吸附保持包含玻璃基板和树脂层的第1基板。(B)利用第2保持部吸附保持第2基板。(C)使第1保持部与第2保持部相对地移动,从而使第1基板与第2基板隔着粘接剂接触并进行加压。接合方法具有下述步骤(D)~(E)。(D)利用加热部加热第1基板。(E)使用自加热部向第1保持部输送第1基板的输送部输送第1基板。在利用第1保持部吸附保持第1基板之前,利用加热部加热第1基板,从而降低第1基板的翘曲。
技术领域
本公开涉及接合方法和接合装置。
背景技术
专利文献1中公开有一种接合方法,将被处理基板和支承基板吸附保持于相对配置的第1保持部和第2保持部,在利用各保持部的加热机构对各基板进行了加热的状态下,将第2保持部向第1保持部按压,而将被处理基板与支承基板接合。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2013-65677号公报
发明内容
发明要解决的问题
本公开的一技术方案提供一种在将第1基板与第2基板接合之前降低第1基板的翘曲并提高第1基板与第2基板之间的接合精度的技术,该第1基板包含玻璃基板和树脂层。
用于解决问题的方案
本公开的一技术方案的接合方法具有下述步骤(A)~(C)。(A)利用第1保持部对包含玻璃基板和树脂层的第1基板进行吸附保持。(B)利用第2保持部对第2基板进行吸附保持。(C)使所述第1保持部与所述第2保持部相对地移动,从而使所述第1基板与所述第2基板隔着粘接剂接触并进行加压。接合方法具有下述步骤(D)~(E)。(D)利用加热部对所述第1基板进行加热。(E)使用自所述加热部向所述第1保持部输送所述第1基板的输送部对所述第1基板进行输送。在利用所述第1保持部对所述第1基板进行吸附保持之前,利用所述加热部对所述第1基板进行加热,从而降低所述第1基板的翘曲。
发明的效果
根据本公开的一技术方案,能够在将第1基板与第2基板接合之前降低第1基板的翘曲,能够提高第1基板与第2基板之间的接合精度,该第1基板包含玻璃基板和树脂层。
附图说明
图1是表示一实施方式的接合系统的俯视图。
图2是图1的接合系统的侧视图。
图3是表示第1基板和第2基板的一个例子的侧视图。
图4是表示接合装置的一个例子的俯视图。
图5是表示交接部和翻转部的一个例子的主视图。
图6是表示翻转部的一个例子的侧视图。
图7是表示输送部的一个例子的侧视图。
图8是表示输送部的第1输送臂的一个例子的俯视图。
图9是表示输送部的第2输送臂的一个例子的俯视图。
图10是表示加热部的一个例子的剖视图。
图11是表示接合部的一个例子的剖视图。
图12是表示接合部的动作的一个例子的剖视图。
图13是表示一实施方式的接合方法的流程图。
图14是表示第2加热部的一个例子的侧视图。
图15是表示翘曲测量部的一个例子的侧视图。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造