[发明专利]曝光机、触控显示装置的制作方法及触控显示装置

说明书

本发明提供一种曝光机，包括载台，载台上设有CCD对位相机。本发明还提供一种触控显示装置的制作方法，包括：提供显示基板，显示基板包括相对设置的阵列基板和彩色滤光基板，阵列基板远离彩色滤光基板一侧设有多个定位标记，彩色滤光基板远离阵列基板一侧的表面设有金属膜层；在金属膜层上涂布光刻胶；提供曝光机，将具有光刻胶的显示基板放置在曝光机的载台上并使阵列基板具有多个定位标记的一侧面向载台；利用CCD对位相机识别多个定位标记以对显示基板进行定位；以及在对显示基板进行定位后，对彩色滤光基板上的光刻胶进行曝光。利用上述曝光机及制作方法制作的触控显示装置的能提升产品良率，降低成本。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种曝光机、触控显示装置的制作方法及触控显示装置。

背景技术

在制作显示装置过程中，光刻工艺(Photo Engraving Process，PEP)是必不可少的工艺之一，光刻工艺包括光刻胶涂布、曝光、显影、蚀刻及光刻胶剥离等工序。在光刻工艺中利用曝光机进行曝光时，为了实现各层之间图形重合度达到像素级的对位，一个重要的条件就是需要曝光机准确识别设置在基板上的对位标记(alignment mark)，以进行曝光机对准，实现各层图形对位。

例如在制作彩色滤光(Color Filter，CF)基板时，在玻璃底板的四周设置有对位标记，当在玻璃底板两侧形成光刻图案时，在曝光过程中，将玻璃底板设置的对位标记作为曝光机识别的对准点，进行曝光。

近年来，On-Cell触控显示装置被广泛应用，是目前主流的触控结构之一。在制作On-cell触控显示装置时，需要在薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)基板与彩色滤光基板组装完成后，在彩色滤光基板上远离薄膜晶体管基板一侧表面制作触控感测层。

制作触控感测层的过程需要在彩色滤光片基板远离薄膜晶体管基板的一侧的表面通过物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)镀膜形成金属膜，然后再对金属膜进行光刻工艺以形成图案化的触控感测层。由于镀膜后形成金属膜会覆盖整个彩色滤光片基板的表面，且金属膜不透光，会将彩色滤光基板上另一侧的对位标记遮挡住。为了避免后续的光刻工艺制作的触控感测层发生偏移而造成触控功能异常，制作触控感测层的光刻工艺同样也同样需要使用对位标记进行对准曝光，因此，在将金属膜图案化形成触控感测层前还需先将彩色滤光基板上另一侧的对位标记从金属膜层一侧显现出来。

目前常用的做法是通过在金属膜层上滴酸蚀刻使对位标记显现，具体是通过滴酸机将不透明的金属膜层腐蚀，但滴酸制程会产生黑点腐蚀、漏滴、蚀刻不良、酸液扩散等问题，严重影响产能和良率，同时还要增加相应的设备及人力成本等。

发明内容

本发明的目的在于提供了一种曝光机、触控显示装置的制作方法及触控显示装置，利用该曝光机及制作方法制作的触控显示装置能提升的产品良率，降低了成本。

本发明解决其技术问题是采用以下的技术方案来实现的。本发明实施例公开了一种曝光机，包括载台，所述载台具有呈2×2阵列排布或2×3阵列排布的多个入镜区域；每个所述入镜区域相对的两侧均设有一组CCD对位相机，在X方向上相邻的两个入镜区域之间共设一组所述CCD对位相机；每组所述CCD对位相机内包括1至3个所述CCD对位相机。

在本发明的一个实施例中，所述载台具有呈2×2阵列排布或2×3阵列排布的多个入镜区域；所述载台上设有一组可移动的CCD对位相机，每组所述CCD对位相机内包括1至3个所述CCD对位相机，所述载台设有供所述CCD对位相机移动的轨道以使所述CCD对位相机依次移动至每个所述入镜区域的两侧。

在本发明的一个实施例中，所述曝光机具有两个所述载台，其中一个所述载台具有呈2×2阵列排布的四个入镜区域，另一个所述载台具有呈2×3阵列排布的六个入镜区域。

在本发明的一个实施例中，每个所述CCD对位相机旁对应设有一个激光头。