[发明专利]显示器件及其制备方法

权利要求书

1.显示器件的制备方法，其特征在于，包括：

提供显示装置，所述显示装置包括阵列排布的多个像素点（100），所述像素点（100）的尺寸为100纳米-10微米，相邻所述像素点的间距为1-10微米；

在所述像素点（100）上方覆设阻挡层（109），所述像素点（100）发出的光通过所述阻挡层（109）；

在所述像素点（100）上方形成栅格层（110），所述阻挡层（109）位于所述像素点（100）与所述栅格层（110）之间，所述栅格层（110）包括阵列排布的多个栅格孔（111），所述栅格孔（111）相对于所述像素点（100）设置，且所述栅格孔（111）的底部暴露所述阻挡层（109），所述像素点（100）发出的光通过所述栅格孔（111）出射；

在所述栅格层（110）上形成反光层（112），通过干法刻蚀使所述反光层（112）至少覆盖所述栅格孔（111）的侧壁，且暴露出所述栅格孔（111）的底部，所述像素点（100）发出的光中至少部分光经过所述反光层（112）的反射；

在所述栅格层（110）上形成微透镜阵列（113），所述微透镜阵列（113）包括阵列排布的多个微透镜单元（114），所述微透镜单元（114）相对于所述栅格孔（111）设置，且所述微透镜单元（114）覆盖所述栅格孔（111）。

2.根据权利要求1所述的显示器件的制备方法，其特征在于，形成所述栅格层（110）包括：在所述像素点（100）上方形成栅格层涂层（110a），刻蚀所述栅格层涂层（110a）形成所述栅格孔（111）。

3.根据权利要求1所述的显示器件的制备方法，其特征在于，还包括：

在形成所述微透镜阵列（113）之前，在所述栅格层（110）上形成透明层（115），所述透明层（115）填充所述栅格孔（111），所述微透镜阵列（113）覆盖在所述透明层（115）上方。

4.根据权利要求1所述的显示器件的制备方法，其特征在于，所述微透镜单元（114）填充所述栅格孔（111）。

5.根据权利要求1所述的显示器件的制备方法，其特征在于，形成所述微透镜阵列（113）包括：

在所述栅格层（110）上形成微透镜材料层（113a），通过压印所述微透镜材料层（113a）形成所述微透镜阵列（113）。

6.根据权利要求1所述的显示器件的制备方法，其特征在于，形成所述微透镜阵列（113）包括：

在所述栅格层（110）上形成微透镜材料层（113a），并在所述微透镜材料层（113a）上形成前体层（116），通过刻蚀工艺将形成于所述前体层（116）上的微透镜图形（117）转印至所述微透镜材料层（113a），形成所述微透镜阵列（113）。

7.根据权利要求1所述的显示器件的制备方法，其特征在于，形成所述微透镜阵列（113）包括：

在所述栅格层（110）上形成微透镜材料层（113a），通过光刻、回流形成所述微透镜阵列（113）。

8.根据权利要求1所述的显示器件的制备方法，其特征在于，形成所述反光层（112）包括：

在所述栅格层（110）上形成反光材料层（112a）；

通过干法刻蚀所述反光材料层（112a）形成所述反光层（112），所述反光层（112）仅覆盖所述栅格孔（111）的侧壁。

9.根据权利要求1所述的显示器件的制备方法，其特征在于，沿着远离所述像素点（100）的方向，所述栅格孔（111）的横截面尺寸逐渐变大使经过所述反光层（112）反射的光聚拢出射。