[发明专利]一种真空镀膜反光产品及其制备工艺

说明书

本发明提供了一种真空镀膜反光产品及其制备工艺，制备工艺包括以下步骤：将待镀膜产品放入真空室内，使用连接组件将待镀膜产品固定在靶材本体外部；启动旋转组件，旋转组件通过连接组件带动待镀膜产品转动；启动靶材加热组件对靶材本体加热，靶材本体蒸发产生的金属气体沉积在待镀膜产品表面形成反光膜。本发明中，通过启动旋转组件能够带动待镀膜产品转动，待镀膜产品旋转中心线与靶材上表面平行，能够为待镀膜产品外侧壁或内侧壁单独镀膜，适用于长管状结构反光产品的制备，制备过程不会出现旋转中心和外围的待镀膜产品的线速度不相同的问题，从而提高了镀膜质量及反光膜的反光效果。

技术领域

本发明涉及照明反光产品制备技术领域，特别涉及一种真空镀膜反光产品及其制备工艺。

背景技术

为使光学零件能满足在光电仪器及元器件中所需的光学、电学、物理性能，而可以在其表面上镀一层、多层乃至上百层的薄膜。真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。

授权公告号为“CN102252178B”的发明公开了一种基于光学材料和镀膜技术的高效节能照明灯具及加工方法，加工过程中将反射罩基片放入真空镀膜机的真空室内，由齿轮带动基片做圆周运动，然而基片采用上述自转方式旋转时，由于真空镀膜时金属蒸汽向上逸散，处于旋转中心和外围的基片的线速度并不相同，会造成基片表面反光镀层的厚度不均，影响产品质量及反光效果，而且，基片旋转中心线垂直于靶材上表面，在对基片内侧镀膜时，金属蒸汽也会逸散沉积在基片外侧，另外，现有的真空镀膜工艺多用于为平面基片镀膜，不便于对长管状结构产品镀膜。

发明内容

本发明提供一种真空镀膜反光产品及其制备工艺，用以解决目前电池无法长期弯折的技术问题。

为解决上述技术问题，本发明公开了一种真空镀膜反光产品制备工艺，包括以下步骤：

步骤1：将待镀膜产品放入真空室内，使用连接组件将待镀膜产品固定在靶材本体外部；

步骤2：启动旋转组件，旋转组件通过连接组件带动待镀膜产品转动；

步骤3：启动靶材加热组件对靶材本体加热，靶材本体蒸发产生的金属气体沉积在待镀膜产品表面形成反光膜。

优选的，在所述步骤1中，所述真空室设置在真空镀膜机内，所述真空镀膜机外部设置真空泵，所述真空泵输入端通过抽真空接管与所述真空室内部连通，将待镀膜产品放置在真空室内后，启动真空泵对真空室内进行抽真空，直至真空室内的真空度到达预设真空度范围内时，关闭真空泵。

优选的，所述预设真空度范围为4.5×10^-2Pa～9×10^-5Pa。

优选的，在所述步骤3中，所述靶材加热组件包括：

支架，所述支架一端与所述真空室左侧内壁固定连接；

底座，所述底座一端与所述支架远离所述真空室内壁一端固定连接，所述靶材本体放置在所述底座上表面；

空腔，所述空腔设置在所述底座内部，所述空腔内设置电热丝，所述电热丝与空腔上端内壁固定连接，所述电热丝与外部电源电性连接；

挡板，所述挡板设置有两个，两个所述挡板对称设置在所述底座上表面左右两端，所述挡板上端相互靠近一侧设置为斜面。

优选的，所述靶材加热组件还包括电子枪，所述电子枪输出端朝向所述靶材本体上表面，所述电子枪与外部电源电性连接，所述电子枪用于产生高能电子束并将高能电子束照射在靶材本体上表面，对靶材本体加热使其蒸发。

优选的，所述真空室内还设置升降组件，所述升降组件包括：

第一电机，所述第一电机固定设置在所述真空室底壁；