[发明专利]一种用于电弧激发的磁性密封旋转装置

说明书

本发明涉及多弧离子镀技术领域，具体地说就是一种用于电弧激发的磁性密封旋转装置。一种用于电弧激发的磁性密封旋转装置，包括多弧离子镀装置主体、磁流体密封装置和旋转引弧装置，所述旋转引弧装置与多弧离子镀装置主体通过磁流体密封装置密封转动连接。通过旋转气缸带动引弧部分转动，使引弧杆在转动过程中不断与靶弧源接触，激发电弧放电，能够减少引弧部分与磁流体密封装置之间的相对移动，减少对磁流体密封装置的损坏，延长设备的使用寿命，提高镀膜效率。

技术领域

本发明涉及多弧离子镀技术领域，具体地说就是一种用于电弧激发的磁性密封旋转装置。

背景技术

薄膜材料已经成为国家制造业中的一种重要材料，具有巨大的经济效益，被广泛地应用于航空、航天、冶金、化工、能源及生物等领域。与其他技术方法相比，电弧离子镀技术具有离化率高、沉积速率高、膜基结合力良好及设备操作简单等特点而在工业中获得了应用。电弧离子镀制备薄膜时，为了保持稳定电弧燃烧，阴极弧在靶表面快速运动，在靶表面区域实现尖端放电。

其中引弧装置与多弧离子镀装置主体通过磁流体密封装置进行密封，以保障多弧离子镀装置主体内部的气体环境。现有技术中的引弧装置通过伸缩形式实现与靶材表面的快速接触并离开，实现真空状态下瞬间击穿，激发电弧放电，引弧装置伸缩过程中与磁流体密封装置持续产生相对位移，容易造成磁流体密封装置的损伤漏气，影响设备的使用寿命及生产效率。

发明内容

为解决上述引弧装置工作伸缩过程中容易造成磁流体密封装置损坏的问题，本发明提供了一种用于电弧激发的磁性密封旋转装置。

本发明解决其技术问题所采取的技术方案是：一种用于电弧激发的磁性密封旋转装置，包括多弧离子镀装置主体、磁流体密封装置和旋转引弧装置，所述旋转引弧装置与多弧离子镀装置主体通过磁流体密封装置密封转动连接。

作为优化，所述的多弧离子镀装置主体包括装置外壳、靶弧源和样品固定组件，所述样品固定组件转动连接于所述装置外壳内部，所述磁流体密封装置连接于所述装置外壳上，所述旋转引弧装置与装置外壳转动连接，所述靶弧源设置于装置外壳内部，所述靶弧源上连接有弧源电源，所述靶弧源与旋转引弧装置相邻设置。

作为优化，所述的磁流体密封装置外侧与装置外壳固连，所述磁流体密封装置内部设有轴承，所述旋转引弧装置包括旋转气缸和引弧部分，所述旋转气缸的旋转轴上设有驱动杆，所述旋转气缸设置于装置外壳外侧，所述驱动杆另一端穿过所述轴承内圈设置于装置外壳内侧，所述引弧部分与设置于装置外壳内部的驱动杆一端相连，所述引弧部分用于接触靶弧源引弧。

作为优化，所述的引弧部分包括引弧杆，所述引弧杆垂直于所述驱动杆的轴心方向，所述引弧杆一端与驱动杆固连，所述引弧杆另一端与靶弧源接触连接。

作为优化，设置于装置外壳内部的驱动杆一端固定有驱动齿轮，所述引弧部分包括连接轴和引弧杆，所述连接轴平行于所述驱动杆设置，所述连接轴一端与所述装置外壳内壁转动连接，所述连接轴上连接有从动齿轮，所述驱动齿轮与从动齿轮啮合连接，所述引弧杆连接于所述连接轴远离装置外壳内壁的一侧，所述引弧杆的长度方向一端垂直连接于所述驱动杆的轴心方向设置，所述引弧杆另一端与靶弧源接触连接，所述从动齿轮直径小于驱动齿轮直径。

作为优化，所述装置外壳外侧面设有气密室，所述驱动杆与气密室转动连接。

作为优化，所述的引弧部分外侧连接有驱动齿轮，所述引弧部分包括连接轴和引弧杆，所述连接轴上设有从动齿轮，所述驱动齿轮与从动齿轮啮合连接，所述引弧杆一端与连接轴固连，所述引弧杆另一端与靶弧源接触连接，所述连接轴一端与装置外壳内侧面转动连接，所连接轴另一端设有圆柱形配重块，所述圆柱形配重块与连接轴同轴心设置，所述从动齿轮直径小于驱动齿轮直径。

作为优化，所述的驱动齿轮的轴心位置设有连接孔，所述连接孔内侧圆周面上均匀设有若干个卡槽，所述驱动杆内部设有调节组件，所述调节组件包括卡接部分和调节部分，所述卡接部分与卡槽卡接，所述卡接部分与调节部分滑动连接。