[发明专利]一种发光装置

权利要求书

1.一种发光装置，其特征在于，包括：

基板、设置于基板一侧的发光结构层以及设置于发光结构层远离基板一侧的封装层；

所述封装层包括至少一层第一无机层和至少一层第二无机层，所述第一无机层和所述第二无机层交替层叠设置，且所述封装层邻近所述发光结构层的一侧为第一无机层，所述第二无机层采用的材料包括具有网状化学键的无机材料；

所述封装层还包括第三无机层，所述第三无机层设置于所述第一无机层和所述第二无机层的层叠结构远离所述基板的一侧；

所述第一无机层覆盖所述发光结构层，所述第二无机层在所述基板的垂直投影至少覆盖所述发光结构层；所述第三无机层在所述基板的垂直投影覆盖所述第一无机层。

2.根据权利要求1所述的发光装置，其特征在于：

所述至少一层第一无机层的总厚度与所述第三无机层的厚度的总和小于或等于所述至少一层第二无机层的总厚度。

3.根据权利要求1所述的发光装置，其特征在于：

所述封装层还包括阻隔胶层和阻隔膜层，所述阻隔膜层设置于所述阻隔胶层远离所述基板的一侧；所述阻隔胶层覆盖所述第三无机层；所述阻隔胶层和所述阻隔膜层用于阻隔水氧；

所述第三无机层邻近所述阻隔胶层的表面的粗糙度大于预设值。

4.根据权利要求3所述的发光装置，其特征在于：

所述第三无机层邻近所述阻隔胶层的表面的粗糙度大于或等于1nm，且小于或等于50nm。

5.根据权利要求1所述的发光装置，其特征在于：

所述第二无机层在所述基板的垂直投影的边界为第一边界，与所述第二无机层相邻且位于所述第二无机层邻近所述基板一侧的第一无机层在所述基板的垂直投影的边界为第二边界，所述第一边界位于所述第二边界和所述发光结构层之间。

6.根据权利要求3所述的发光装置，其特征在于：

所述阻隔胶层采用的材料包括聚烯烃或橡胶，所述阻隔胶层采用的材料还包括吸水材料；

所述吸水材料包括氧化钙、氧化钡、氧化纳和氧化镁等金属氧化物中的至少一种；

所述阻隔膜层包括金属箔或塑料阻水膜。

7.根据权利要求1所述的发光装置，其特征在于：

所述第一无机层的厚度范围为10nm-2μm，所述第三无机层的厚度范围为50-500nm。

8.根据权利要求1所述的发光装置，其特征在于：

所述封装层包括层叠设置的第一无机层、第二无机层和第三无机层，

或者，所述封装层包括层叠设置的第一无机层、第二无机层、第一无机层和第三无机层；

或者，所述封装层包括层叠设置的第一无机层、第二无机层、第一无机层、第二无机层和第三无机层。

9.根据权利要求1所述的发光装置，其特征在于：

所述封装层的膜层应力大于或等于-100Mpa，且小于或等于100Mpa。

10.根据权利要求1所述的发光装置，其特征在于：

所述第一无机层和所述第三无机层采用的材料均包括氮化硅、氧化硅、氮氧化硅、氧化铝和氧化钛中的至少一种。