[发明专利]一种PECVD反应装置在审
申请号: | 202210622680.5 | 申请日: | 2022-06-01 |
公开(公告)号: | CN114959660A | 公开(公告)日: | 2022-08-30 |
发明(设计)人: | 孙文彬;刘龙龙 | 申请(专利权)人: | 江苏邑文微电子科技有限公司;无锡邑文电子科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;C23C16/458 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 张洋 |
地址: | 226400 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 pecvd 反应 装置 | ||
1.一种PECVD反应装置,其特征在于,包括托盘组件、支撑盘、真空反应腔体、传动组件以及旋转升降机构;
所述托盘组件和所述支撑盘均设置于所述真空反应腔体内,所述真空反应腔体为真空密封腔体;
所述托盘组件包括间隔设置的第一托盘和第二托盘,所述支撑盘设置于所述第一托盘和所述第二托盘之间;
所述支撑盘均匀地环设有多组支撑手指,多组所述支撑手指均用于承载晶圆;
所述传动组件的一端进入所述真空反应腔体并与所述支撑盘连接,另一端与设置于所述真空反应腔体的外部的所述旋转升降机构连接;
所述旋转升降机构带动所述传动组件进行升降和旋转运动,所述传动组件带动支撑盘进行升降和旋转运动,以带动承载于所述支撑盘上的多组所述支撑手指上的多个所述晶圆进行升降和旋转运动。
2.根据权利要求1所述的PECVD反应装置,其特征在于,所述传动组件包括传动杆和陶瓷连接件,所述传动杆的一端与所述旋转升降机构连接,另一端与所述陶瓷连接件连接,所述真空反应腔体的底部开设有贯穿孔,所述陶瓷连接件穿过所述贯穿孔与所述支撑盘连接,所述陶瓷连接件可在所述传动杆的带动下沿所述贯穿孔做升降运动。
3.根据权利要求1所述的PECVD反应装置,其特征在于,所述PECVD反应装置还包括驱动机构,所述驱动机构与所述旋转升降机构连接,所述驱动机构用于向所述旋转升降机构输出动力,以驱动所述传动组件进行升降和旋转运动。
4.根据权利要求3所述的PECVD反应装置,其特征在于,所述驱动机构包括驱动电机、减速器以及联轴器,所述驱动电机、所述减速器以及所述联轴器依次连接,所述联轴器与所述旋转升降机构连接。
5.根据权利要求1所述的PECVD反应装置,其特征在于,所述旋转升降机构为顶升凸轮分割器。
6.根据权利要求5所述的PECVD反应装置,其特征在于,所述支撑盘均匀地环设有六组所述支撑手指,所述顶升凸轮分割器为六工位顶升凸轮分割器;
或,所述支撑盘均匀地环设有八组所述支撑手指,所述顶升凸轮分割器为八工位顶升凸轮分割器。
7.根据权利要求1所述的PECVD反应装置,其特征在于,所述第二托盘设置有多个工位,多个所述工位与多组所述支撑手指一一对应。
8.根据权利要求7所述的PECVD反应装置,其特征在于,所述旋转升降机构用于带动所述支撑盘间歇旋转,以使任意一组所述支撑手指从该组所述支撑手指所在的所述工位旋转至相邻的另一所述工位。
9.根据权利要求8所述的PECVD反应装置,其特征在于,所述旋转升降机构还用于带动所述支撑盘上升,并带动所述支撑盘旋转一个所述工位后带动所述支撑盘下降。
10.根据权利要求7所述的PECVD反应装置,其特征在于,多个所述工位均开设有与所述支撑手指的形状适配的容置槽,所述容置槽用于容置所述支撑手指。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏邑文微电子科技有限公司;无锡邑文电子科技有限公司,未经江苏邑文微电子科技有限公司;无锡邑文电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210622680.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的