[发明专利]一种锂铝硅玻璃制备及其强化后玻璃表面微缺陷处理方法

权利要求书

1.一种锂铝硅玻璃，其特征在于，所述锂铝硅玻璃由以下质量份数的原料制成：SiO₂：63.2～68.3份、Al₂O₃：10.05～15.24份、Na₂O：1.5～12.2份、K₂O：0.1-0.9份、Li₂O：9～11.5份、MgO：2.1～4份以及ZrO₂：0.2-1.5份。

2.如权利要求1所述的一种锂铝硅玻璃的制备，其特征在于，包括以下步骤：

A1：采用熔制-成型方法制备锂铝硅玻璃；

A2：对A1制备得到的锂铝硅玻璃进行化学强化，得到原始强化锂铝硅玻璃。

3.如权利要求2所述的一种锂铝硅玻璃的制备，其特征在于，所述A1具体包括：

A1a：熔制：在1480～1580℃下，将原料熔制成化学组成均匀的无气泡熔融玻璃液；

A1b：成型：将无气泡熔融玻璃液采用浮法成型方法制备为锂铝硅玻璃。

4.如权利要求1所述的一种锂铝硅玻璃的制备，其特征在于，还包括步骤A3，所述A3为：对制备得到的原始强化锂铝硅玻璃的表面微缺陷进行检测以区分出不良品和合格品，并对不良品进行表面微缺陷修复。

5.一种锂铝硅玻璃强化后玻璃表面微缺陷处理方法，其特征在于，包括以下步骤：

B1：对不良品的两侧进行磨抛减薄以加工成为退强化玻璃；

B2：对B1获得的退强化玻璃再次进行化学强化以制备为二次修复锂铝硅玻璃。

6.如权利要求5所述的一种锂铝硅玻璃强化后玻璃表面微缺陷处理方法，其特征在于，所述磨抛减薄的厚度控制在5～30μm之间。

7.如权利要求5所述的一种锂铝硅玻璃强化后玻璃表面微缺陷处理方法，其特征在于，所述B1包括依次进行的粗磨和精磨，其中，所述粗磨包括以下步骤：

B1a1：边抛：抛光粉浓度：1.1～1.3g/mL、抛光时间：5～8min、转速：≤50r/min；

B1a2：2.5D扫光：抛光粉浓度：1.1～1.2g/mL、抛光时间：5～8min、转速：≤50r/min；

B1a3：上扫下抛、平抛：抛光粉浓度：1.0～1.1g/mL、抛光时间：10～20min、转速：≤40r/min；

所述精磨为：上扫下抛、LP：抛光粉浓度：1.0～1.1g/mL、抛光时间≤5min、转速：≤40r/min。

8.如权利要求5所述的一种锂铝硅玻璃强化后玻璃表面微缺陷处理方法，其特征在于，所述B2中的化学强化过程包括以下步骤：

B2a：预热：将磨抛后的退强化玻璃在350～390℃温度下保温10～30min；

B2b：强化：将预热后的退强化玻璃移送到装有强化处理液的钢化炉中进行强化处理，所述强化处理可选择一次强化处理工艺或二次强化处理工艺；

B2c：退火：将强化处理后的退强化玻璃滴盐10～15min并移送到350～380℃的退火炉中保温30～60min，然后以3～6℃/min的降温速率降至常温，制备得到二次修复锂铝硅玻璃。

9.如权利要求8所述的一种锂铝硅玻璃强化后玻璃表面微缺陷处理方法，其特征在于，所述B2b的强化处理为一次强化处理工艺，具体为：使用KNO₃和NaNO₃的混合溶液对退强化玻璃进行强化，所述KNO₃和NaNO₃的混合溶液中的KNO₃含量为94wt％～95wt％KNO₃。

10.如权利要求8所述的一种锂铝硅玻璃强化后玻璃表面微缺陷处理方法，其特征在于，所述B2b的强化处理为二次强化处理工艺，具体包括步骤：

S1：使用KNO₃和NaNO₃的混合溶液对退强化玻璃进行初步强化，所述KNO₃和NaNO₃的混合溶液中的KNO₃含量为3wt％～95wt％KNO₃；

S2：使用100wt％KNO₃在400～440℃下再次对初步强化后的退强化玻璃进行再次强化。