[发明专利]半导体制程工艺配方的分配方法、系统、设备及介质

权利要求书

1.一种半导体制程工艺配方的分配方法，其特征在于，所述方法包括：

监测各机台在至少一个预设周期内运行时设置的工艺配方；

针对任意一个工艺配方，根据所述工艺配方中各配方参数的参数值确定所述工艺配方对应生产配方的展示参数，并根据所述展示参数生成所述生产配方的显示模板；

响应于对展示参数的调整请求，将所述显示模板输出到可视化界面中展示，以通过所述可视化界面接收表征对所述显示模板内各展示参数的参数值的调整指示；

基于调整后的各展示参数生成所述生产配方对应的黄金工艺配方，并将所述黄金工艺配方下发给用于执行所述黄金工艺配方对应工艺流程的机台。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述针对任意一个工艺配方，根据所述工艺配方中各配方参数的参数值确定所述工艺配方对应生产配方的展示参数，包括：

若所述配方参数的参数值在所述至少一个预设周期内设定有上下限，则确定所述配方参数为所述展示参数；

若所述配方参数的参数值在所述至少一个预设周期内发生变化，则确定所述配方参数为所述展示参数；

若所述配方参数的参数值在所述至少一个预设周期内的变化次数满足预设阈值，则确定所述配方参数为所述展示参数。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述工艺配方中各配方参数的参数值确定所述工艺配方对应生产配方的展示参数之前，所述方法包括：

确定各所述配方参数未添加表征用户关注的预设标签；

所述方法还包括：

所述针对任意一个配方参数，将添加所述预设标签的配方参数作为所述展示参数。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述展示参数生成所述生产配方的显示模板，包括：

确定每一展示参数的关联项；其中，所述关联项至少包括所述展示参数对应配方参数的参数名、参数值以及参数值范围；

根据所述关联项生成所述显示模板。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述将所述显示模板输出到可视化界面中展示之前，所述方法还包括：

针对每一展示参数，根据所述展示参数在至少一个预设周期内的参数值变化确定所述展示参数对应配方参数的参考值和/或参考范围；

所述将所述显示模板输出到可视化界面中展示，包括：

将所述配方参数的参考值和所述参数值在所述可视化界面中关联展示，并将所述配方的参考范围和所述参数值范围在所述可视化界面中关联展示。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述可视化界面内设有用于将所述生产配方内的各配方参数添加到所述显示模板的第一控件；所述根据所述展示参数生成所述生产配方的显示模板之前，所述方法还包括：

响应于所述第一控件的触发指示，获取待添加的配方参数；

将所述待添加的配方参数作为所述展示参数。

7.根据权利要求1-6中任一所述的方法，其特征在于，所述将所述黄金工艺配方下发给用于执行所述黄金工艺配方对应工艺流程的机台之前，所述方法还包括：

生成所述黄金工艺配方后，在绑定界面内展示所述黄金工艺配方对应的参考机台；其中，所述参考机台为在所述至少一个周期内运行时设有所述黄金工艺配方对应工艺配方的机台；

所述将所述黄金工艺配方下发给用于执行所述黄金工艺配方对应工艺流程的机台，包括：

响应于对所述绑定界面内各参考机台的选定操作，将所述黄金工艺配方下发到选定的各所述参考机台中。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述绑定界面内设有用于将机型与所述黄金工艺配方适配的各机台添加到所述绑定界面的第二控件；所述将所述黄金工艺配方下发给用于执行所述黄金工艺配方对应工艺流程的机台之前，所述方法还包括：

响应于所述第二控件的触发指示，获取待添加机台；

将所述待添加机台作为所述参考机台。