[发明专利]半导体制程工艺配方的分配方法、系统、设备及介质

说明书

本申请实施例公开了一种半导体制程工艺配方的分配方法、系统、设备及介质。该方法包括：通过周期性监测机台运作时设置的工艺配方，以根据工艺配方中各配方参数的参数值确定该工艺配方对应生产配方中的展示参数。该展示参数即表征需要人工为其参数值进行设定几率较大的配方参数，这样在对生产配方的配方参数进行调整以生成用于机台执行的黄金工艺配方时，通过在可视化界面内仅展示该生产配方的展示参数，以减少相关人员从众多配方参数中找寻可调参数的时间。并且，上述流程大幅降低了配方管理系统将配方参数调用到可视化界面内展示的响应时间，提高黄金工艺配方的分配效率。

技术领域

本申请实施例涉及半导体制造技术领域，具体涉及一种半导体制程工艺配方的分配方法、系统、设备及介质。

背景技术

半导体的制程流程主要包括硅片的制作、晶圆的制作以及半导体的封测等工艺流程。通过机台执行上述工艺流程之前，需要对配方管理系统(RMS，RecipeManagementSystem)中预存的生产工艺配方(Recipe)进行参数值的调整和设定，以生成用于下发给指定机台执行的黄金工艺配方(Golden Recipe)。

目前多采用人工的方式执行上述配方参数的设定过程。具体通过可视化界面展示生产工艺配方中的全部配方参数，然后采用人工的方式对需要调整的可调参数进行参数值的设定后生成对应的黄金工艺配方。

生产工艺配方中的配方参数量较大，相关人员需消耗大量时间在可视化界面中找出可调参数，以通过为可调参数进行参数值的设定进而生成对应的黄金工艺配方。并且，针对配方参数量较大的配方，配方管理系统需要较长的处理时间以将其配方参数调用到可视化界面内展示。

发明内容

本申请实施例提供一种半导体制程工艺配方的分配方法、系统、设备及介质，用于降低生成黄金工艺配方过程中人工找寻可调参数的时间，进而提高黄金工艺配方的分配效率。

第一方面，本申请实施例提供一种半导体制程工艺配方的分配方法，所述方法包括：

监测各机台在至少一个预设周期内运行时设置的工艺配方；

针对任意一个工艺配方，根据所述工艺配方中各配方参数的参数值确定所述工艺配方对应生产配方的展示参数，并根据所述展示参数生成所述生产配方的显示模板；

响应于对展示参数的调整请求，将所述显示模板输出到可视化界面中展示，以通过所述可视化界面接收表征对所述显示模板内各展示参数的参数值的调整指示；

基于调整后的各展示参数生成所述生产配方对应的黄金工艺配方，并将所述黄金工艺配方下发给用于执行所述黄金工艺配方对应工艺流程的机台。

本申请实施例通过周期性监测机台运作时设置的工艺配方，以根据工艺配方中各配方参数的参数值确定该工艺配方对应生产配方中的展示参数。该展示参数即表征需要人工为其参数值进行设定几率较大的配方参数，这样在对生产配方的配方参数进行调整以生成用于机台执行的黄金工艺配方时，通过在可视化界面内仅展示该生产配方的展示参数，以减少相关人员从众多配方参数中找寻可调参数的时间。并且，上述流程大幅降低了配方管理系统将配方参数调用到可视化界面内展示的响应时间，提高配方的分配效率。

在一些可能的实施例中，所述针对任意一个工艺配方，根据所述工艺配方中各配方参数的参数值确定所述工艺配方对应生产配方的展示参数，包括：

若所述配方参数的参数值在所述至少一个预设周期内设定有上下限，则确定所述配方参数为所述展示参数；

若所述配方参数的参数值在所述至少一个预设周期内发生变化，则确定所述配方参数为所述展示参数；

若所述配方参数的参数值在所述至少一个预设周期内的变化次数满足预设阈值，则确定所述配方参数为所述展示参数。