[发明专利]一种基于化学法制备自支撑BaTiO3在审

专利信息
申请号: 202210688478.2 申请日: 2022-06-17
公开(公告)号: CN115182034A 公开(公告)日: 2022-10-14
发明(设计)人: 张林兴;席国强;程昕蕊;李航任;丁佳麒;田建军 申请(专利权)人: 北京科技大学
主分类号: C30B1/02 分类号: C30B1/02;C30B5/00;C30B29/32;C30B29/64
代理公司: 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 代理人: 岳野
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 化学 法制 支撑 batio base sub
【说明书】:

发明属于信息功能材料、功能薄膜和柔性电子技术领域,涉及一种基于化学法制备自支撑BaTiO3单晶薄膜的工艺,该工艺为:在不同单晶基片上,采用化学旋涂的方式首先在基片上外延生长Sr3Al2O6/BaTiO3结构;利用Sr3Al2O6的可溶于水的特性,将其浸泡在去离子水中12h小时以上,充分溶解即可得到自支撑BaTiO3单晶薄膜。本申请可以通过控制前驱液浓度、旋涂转速、退火次数调控单晶薄膜厚度;在使用化学旋涂法生长BaTiO3单晶薄膜过程中不会对Sr3Al2O6薄膜层造成损害。该方法适用于大面积柔性功能层的剥离,对全化学法制备自支撑氧化物钙钛矿单晶薄膜具有重要意义。

技术领域:

本发明属于信息功能材料、功能薄膜和柔性电子技术领域,具体涉及到一种基于化学法制备自支撑BaTiO3单晶薄膜的工艺。

背景技术:

随着社会的发展,柔性电子器件发展越来越重要,比如柔性电子皮肤、柔性传感器以及柔性屏幕等。但对于铁电薄膜,其外延生长过于依赖刚性基底的存在,在应用中难免受到限制,同时也会产生衬底无法重复使用,制备成本昂贵等问题。在已报道薄膜的转移方法中,利用水溶性氧化物Sr3Al2O6(SAO)作为牺牲层实现自支撑薄膜制备的方法已经适用于多种单晶薄膜。但是目前基于SAO上外延单晶薄膜多采用磁控溅射、脉冲激光沉积以及分子束外延等物理法,这些方法中制备设备造价昂贵、制备过程繁琐、制备条件苛刻且成本昂贵都对其规模化普及产生了极大的阻碍,难以满足柔性电子器件增加的需求。

溶胶-凝胶法(sol-gel)制备薄膜是化学溶液沉积法(CSD)的一种,由于前驱液的成分可控,原材料来源广泛,制备设备简易,工艺参数易调,薄膜厚度可控,且制备的薄膜成分均匀,适用于多层复合薄膜的制备以及造价低廉等众多优势,对于进一步集成制备异质结构,推动柔性多铁材料及柔性电子器件的发展的具有重要意义。

然而,在使用溶胶-凝胶法制备BaTiO3单晶薄膜时容易产生和牺牲层固溶的问题,这极大的阻碍了自支撑薄膜的制备及应用。

发明内容:

为了解决上述问题,本发明旨在提供一种基于全溶胶-凝胶工艺制备自支撑氧化物钙钛矿薄膜的方法,该方法具有成本低廉,简单易行,薄膜组成可控和基片可回收利用等多重优点。更进一步的,相比一般物理法,本发明中采用基于全溶胶-凝胶工艺制备的自支撑氧化物钙钛矿薄膜具有更高的成分均匀性,可达到原子级,该工艺下的自支撑氧化物钙钛矿薄膜表现更好的铁电、压电性能。

为了实现上述目的,本发明的技术方案是通过大量试验摸索,首先在不同基片上外延生长可溶性物质作为牺牲层,随后在牺牲层生长氧化物钙钛矿单晶薄膜,然后利用溶剂溶解牺牲层,得到自支撑氧化物钙钛矿单晶薄膜。

本发明采取的技术方案为:一种基于化学法制备自支撑BaTiO3单晶薄膜的工艺,所述工艺采用化学旋涂的方式在单晶基片上制备牺牲层/氧化物钙钛矿外延结构,再利用牺牲层的可溶于水的特性,将其浸泡在去离子水中,充分溶解牺牲层后即可得到自支撑BaTiO3单晶薄膜。

进一步,具体包括以下步骤:

S1)选取特定晶面取向的基片;

S2)制备牺牲层前驱体溶液;

S3)制备BaTiO3前驱体溶液;

S4)采用旋涂的方法将S2)得到的牺牲层前驱体溶液旋涂于S1)的基片上,热解得到无定形膜结构,随后经退火得到目标厚度的晶体薄膜;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京科技大学,未经北京科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210688478.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top