[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，包括阵列排布的多个像素区，所述阵列基板还包括：

基底；

多个像素电极，阵列排布在所述基底上，且位于所述像素区；

遮光层，设置在所述基底上，且在对应所述像素区的位置设置有开口，所述开口暴露出所述像素电极；以及

配向膜，设置在所述开口内，且位于所述像素电极上；

其中，所述配向膜远离所述像素电极的一侧表面呈第一弧形凸起，所述第一弧形凸起的曲率半径自所述开口的两侧向所述开口的中心逐渐减小。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括疏水膜层，所述疏水膜层覆于所述遮光层的部分表面，且所述配向膜靠近所述遮光层的两侧与所述疏水膜层接触。

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括设置在所述开口内的辅助层，所述辅助层位于所述配向膜与所述像素电极之间，所述辅助层与所述配向膜接触的表面呈第二弧形凸起。

4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述第二弧形凸起的曲率半径大于所述第一弧形凸起的曲率半径。

5.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括亲水膜层，所述亲水膜层覆于所述遮光层的部分表面，所述辅助层靠近所述遮光层的两侧与所述亲水膜层接触。

6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述辅助层的材料包括疏水材料。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述开口在远离所述像素电极侧的开口大小小于所述开口在靠近所述像素电极侧的开口大小。

8.一种阵列基板制备方法，其特征在于，包括：

提供基底，所述基底上划分有阵列排布的多个像素区；

在所述基底上制备多个像素电极，多个所述像素电极位于所述像素区；

在所述基底上制备遮光层，所述遮光层对应所述像素区的位置设置有开口，所述开口暴露出所述像素电极；以及

在所述开口内制备配向膜，所述配向膜位于所述像素电极上，且所述配向膜远离所述像素电极的一侧表面呈第一弧形凸起，所述第一弧形凸起的曲率半径自所述开口的两侧向所述开口的中心逐渐减小。

9.根据权利要求8所述的阵列基板制备方法，其特征在于，所述在所述基底上制备遮光层的步骤，包括：

在所述基底上制备BPS材料层；

图案化所述BPS材料层以形成所述遮光层，所述遮光层在对应所述像素区的位置形成有开口，所述开口暴露出所述像素电极，且所述开口在远离所述像素电极侧的开口大小小于所述开口在靠近所述像素电极侧的开口大小。

10.一种显示面板，其特征在于，包括相对设置的第一基板和第二基板，所述第一基板包括如权利要求1至7中任一项所述的阵列基板。