[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板

说明书

本申请提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板，该阵列基板包括基底以及阵列排布在基底上的多个像素电极，多个像素电极位于像素区，遮光层设置在基底上，且在对应像素区的位置设置有开口，开口暴露出像素电极，配向膜设置在开口内，且位于像素电极上，配向膜远离像素电极的一侧表面呈第一弧形凸起，第一弧形凸起的曲率半径自开口的两侧向开口的中心逐渐减小，以在像素区形成更高厚度的配向膜，以增大配向膜的厚度，进而在摩擦配向形成沟槽时，能够在像素区形成良好的摩擦效果，提高像素区配向膜的锚定力，避免像素区液晶紊乱导致的漏光问题和显示异常，以缓解现有采用BPS技术的显示面板存在的像素区漏光的问题。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板。

背景技术

BPS(B1ack photo spacer，黑色光阻垫片材料)技术是LCD(Liquid CrystalDisplay，液晶显示器)技术中一种把BM(黑色矩阵)和PS(间隙控制)两道制程合成一道制程的技术。该技术可以在彩膜基板侧或者阵列基板侧执行BPS制程，比如在阵列基板侧执行BPS制程可以大幅度提高显示面板的开口率。但同时也存在显示面板在暗态下像素区密布点状漏光的问题，而漏光会严重影响显示面板的对比度和正常显示。

发明内容

本申请提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板，以缓解现有采用BPS技术的显示面板存在的像素区漏光的技术问题。

为解决上述问题，本申请提供的技术方案如下：

本申请实施例提供一种阵列基板，其包括阵列排布的多个像素区，所述阵列基板还包括：

基底；

多个像素电极，阵列排布在所述基底上，且位于所述像素区；

遮光层，设置在所述基底上，且在对应所述像素区的位置设置有开口，所述开口暴露出所述像素电极；以及

配向膜，设置在所述开口内，且位于所述像素电极上；

其中，所述配向膜远离所述像素电极的一侧表面呈第一弧形凸起，所述第一弧形凸起的曲率半径自所述开口的两侧向所述开口的中心逐渐减小。

在本申请实施例提供的阵列基板中，所述阵列基板还包括疏水膜层，所述疏水膜层覆于所述遮光层的部分表面，且所述配向膜靠近所述遮光层的两侧与所述疏水膜层接触。

在本申请实施例提供的阵列基板中，所述阵列基板还包括设置在所述开口内的辅助层，所述辅助层位于所述配向膜与所述像素电极之间，所述辅助层与所述配向膜接触的表面呈第二弧形凸起。

在本申请实施例提供的阵列基板中，所述第二弧形凸起的曲率半径大于所述第一弧形凸起的曲率半径。

在本申请实施例提供的阵列基板中，所述阵列基板还包括亲水膜层，所述亲水膜层覆于所述遮光层的部分表面，所述辅助层靠近所述遮光层的两侧与所述亲水膜层接触。

在本申请实施例提供的阵列基板中，所述辅助层的材料包括疏水材料。

在本申请实施例提供的阵列基板中，所述开口在远离所述像素电极侧的开口大小小于所述开口在靠近所述像素电极侧的开口大小。

本申请实施例还提供一种阵列基板制备方法，其包括：

提供基底，所述基底上划分有阵列排布的多个像素区；

在所述基底上制备多个像素电极，多个所述像素电极位于所述像素区；

在所述基底上制备遮光层，所述遮光层对应所述像素区的位置设置有开口，所述开口暴露出所述像素电极；以及