[发明专利]一种磁控溅射设备中遮挡件冷却的适配器及磁控溅射设备

权利要求书

1.一种用于磁控溅射设备中遮挡件冷却的适配器，其特征在于，与溅射腔体以及溅射源连接，包括：

壳体，沿所述遮挡件的周向设置，所述壳体包括:延伸部和主体部，所述主体部沿周向设有安装槽，所述延伸部与所述主体部连接，并沿着所述遮挡件的周向设置；

冷却件，所述冷却件设置于所述安装槽内，用于冷却所述遮挡件。

2.如权利要求1所述的适配器，其特征在于，所述主体部的内侧形成有：螺纹段、倾斜段，所述倾斜段自所述延伸部的端面向外倾斜，所述螺纹段与所述倾斜段连接，所述螺纹段的内壁设有设有螺纹。

3.如权利要求1所述的适配器，其特征在于，所述主体部的内侧形成有：安装段，所述安装段与所述遮挡件连接，所述壳体通过所述安装段设置于所述遮挡件外。

4.如权利要求1所述的适配器，其特征在于，所述壳体与所述遮挡件之间形成有间隙空间，所述间隙空间的宽度为0.2mm～0.5mm。

5.如权利要求1所述的适配器，其特征在于，所述壳体的导热系数大于所述遮挡件的导热系数。

6.如权利要求1-5中任一项所述的适配器，其特征在于，所述冷却件，包括：

冷却管，所述冷却管内流通冷却介质，通过所述冷却介质与所述遮挡件进行热交换，降低所述遮挡件的温度。

7.如权利要求6所述的适配器，其特征在于，所述冷却管的进口端与介质源设备的出口端连接，所述冷却管的出口端与介质回收设备的进口端连接，所述介质源设备与所述介质回收设备连接。

8.一种磁控溅射设备，其特征在于，包括：

真空腔体以及从上至下依次设置在所述真空腔体内的靶材、如权利要求1至7任一项所述的适配器、遮挡件以及衬底，其中所述适配器安装于所述遮挡件上。