[发明专利]一种气体扩散器清洗工艺及清洗辅助设备

权利要求书

1.一种气体扩散器清洗工艺，其特征在于：包括一次剥离→二次剥离→研磨→喷砂→化学抛光→烘干→出库检查→包装，所述一次剥离在30～40℃下，使用浓度为160g/l～200g/l的硝酸浸泡5～10H；一次剥离后进行产品表面污染物的确认，当气体扩散器表面有沉积物残留或异色时进行二次剥离。

2.根据权利要求1所述的一种气体扩散器清洗工艺，其特征在于：所述二次剥离包括湿式喷砂→高压水洗。

3.根据权利要求1所述的一种气体扩散器清洗工艺，其特征在于：还包括返工清洗，在出库检查时发现产品外观表面异色，或者Particle不良时进行返工清洗；所述返工清洗包括化学抛光→自动高压清洗，清洗水压力为100bar，对气体扩散器正反面清洗3次，清洗时长2H。

4.根据权利要求1至3任一所述的一种气体扩散器清洗工艺，其特征在于：所述化学抛光包括脱脂→水洗→碱蚀→水洗→酸洗→水洗，所述脱脂采用浓度为20～30g/l的三聚磷酸钠及氢氧化钠，在50～60℃温度下进行，所述碱蚀采用浓度为20～30g/l氢氧化钠及碳酸钠，在30～50℃温度下进行，所述酸洗采用浓度为160～200g/l的硝酸，在30～40℃温度下进行。

5.根据权利要求2所述的一种气体扩散器清洗工艺，其特征在于：所述湿式喷砂采用120#～400#白刚玉，砂水比为1：1～2.5。

6.根据权利要求5所述的一种气体扩散器清洗工艺，其特征在于：所述湿式喷砂使用手持式湿式喷砂机，喷砂压力为3～7kg，喷枪距离为200～400mm，喷枪角度为30～90°。

7.根据权利要求2所述的一种气体扩散器清洗工艺，其特征在于：所述高压水洗采用去离子水，水压为2～6kg。

8.根据权利要求7所述的一种气体扩散器清洗工艺，其特征在于：所述高压水洗使用自动高压清洗机，喷枪速度为200～400mm/s，喷枪距离为100～300mm，喷枪步距为2～8mm。

9.一种气体扩散器清洗辅助设备，用于权利要求6所述的气体扩散器清洗工艺，其特征在于：包括喷砂辅助装置，所述喷砂辅助装置包括竖向对称安装的立柱(1)，所述立柱(1)上端横向安装有横梁(2)，所述立柱(1)之间中部横向活动安装有升降横杆(3)，所述升降横杆(3)通过其两端设置的横杆固定器(31)安装在立柱(1)上；所述升降横杆(3)中部活动安装有喷枪固定卡座(5)。

10.根据权利要求9所述的一种气体扩散器清洗辅助设备，其特征在于：所述喷枪固定卡座(5)通过其下方设置的滑块(4)安装在升降横杆(3)上表面，所述喷枪固定卡座(5)为上下拼合形成的环状件，其上下拼合后中部形成喷枪安装孔(51)用于夹持喷枪。